发明名称 密闭容器的盖子开/关系统及密闭容器的盖子开/关方法
摘要 为将污染物或类似者从储存在晶圆盒(FOUP(前开式统一晶圆盒))中的晶圆容易地且确实地移除,一气体供应管件被定位在前开式界面机械标准(FIMS)系统的开口部份的上方。清洁气体经由气体供应管件被吹送至储存在晶圆盒的内部的晶圆的上表面,以将污染物或类似者从晶圆移除。
申请公布号 TWI278057 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW094137314 申请日期 2005.10.25
申请人 TDK股份有限公司 发明人 宫俊彦;铃木仁;五十岚宏
分类号 H01L21/68(2006.01) 主分类号 H01L21/68(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种盖子开/关系统,用来从包含主体及盖子的储 存容器移去该盖子,该主体包含设置于水平方向的 开口及配置于直立方向的多个搁板,而被储存物体 被放置在该多个搁板的每一个上,该盖子可从该主 体被移去且覆盖该开口以与该主体形成密闭空间, 该盖子开/关系统从该储存容器移去该盖子以打开 该开口,用来插入及移去该被储存物体,该盖子开/ 关系统包含: 安装底座,该储存容器被放置在该安装底座上; 开口部份,位置相邻于该安装底座且于水平方向相 对于该开口; 门件,可固持该盖子且可关闭该开口部份,该门件 藉着固持该盖子而连接在该开口与该开口部份之 间及打开该开口部份;及 气体供应单元,在与该开口部份中该安装底座被放 置之侧不同之侧位在该开口部份的上方,用来在该 开口与该开口部份互相连接的状态中供应预定气 体至储存在该储存容器中的该被储存物体。 2.如申请专利范围第1项所述的盖子开/关系统,其 中: 该气体供应单元包含实质上平行于该被储存物体 的冲净表面延伸的管件;且 该管件包含狭缝,用来在该开口与该开口部份互相 连接的状态中朝向该被储存物体所在的区域供应 该预定气体。 3.如申请专利范围第1项所述的盖子开/关系统,其 中该气体供应单元被支撑在该开口部份的上方成 为可绕实质上平行于该被储存物体的冲净表面的 轴枢转。 4.如申请专利范围第1项至第3项中的任一项所述的 盖子开/关系统,其中该被储存物体包含承受半导 体制程的晶圆,该储存容器包含前开式统一晶圆盒 (FOUP),并且该盖子开/关系统包含前开式界面机械 标准(FIMS)系统。 5.一种被储存物体的冲净方法,用来从包含主体及 盖子的储存容器移去该盖子,及藉着将预定气体吹 送至储存在该储存容器中的被储存物体而实施冲 净操作,其中该主体包含设置于水平方向的开口及 配置于直立方向的多个搁板,而该被储存物体被放 置在该多个搁板的每一个上,该盖子可从该主体被 移去且覆盖该开口以与该主体形成密闭空间,该盖 子从该储存容器被移去以打开该开口,该被储存物 体的冲净方法包含: 将该储存容器放置在一盖子开/关系统中的安装底 座上,该盖子开/关系统包含相对于该开口的开口 部份,且该安装底座位于该开口部份的前表面; 藉着该盖子开/关系统的用来关闭该开口部份的一 门件在该盖子由该门件固持之下将该盖子从该主 体移去;及 藉着将来自位在该开口部份的上方的一气体供应 单元的该预定气体经由该开口及该开口部份吹送 至储存在该储存容器中的该被储存物体而对该被 储存物体实施冲净。 6.如申请专利范围第5项所述的被储存物体的冲净 方法,其中: 该气体供应单元包含实质上平行于该被储存物体 的冲净表面延伸的管件;且 该管件包含狭缝,用来在该开口与该开口部份互相 连接的状态中朝向该被储存物体所在的区域供应 该预定气体。 7.如申请专利范围第5项所述的被储存物体的冲净 方法,其中该气体供应单元被支撑在该开口部份的 上方成为可绕实质上平行于该被储存物体的冲净 表面的轴枢转,并且该预定气体的供应及以一预定 角度的枢转是在该开口与该开口部份互相连接的 状态中被实施。 8.如申请专利范围第5项至第7项中的任一项所述的 被储存物体的冲净方法,其中该被储存物体包含用 于半导体制造的晶圆,并且该盖子从该主体被移去 的状态为一晶圆盒被放置在一装载通口上且储存 在该晶圆盒中的该晶圆经由该装载通口被传递至 一晶圆处理设备的状态。 图式简单说明: 图1为显示根据本发明的一实施例的冲净设备,晶 圆盒,晶圆盒盖子,及开启器的一部份在被垂直于 晶圆盒的开口的剖切平面剖切时的示意结构视图 。 图2A为显示从下方观看的图1所示的气体供应管件 12的结构视图。 图2B为显示在被与图1相同的平面剖切的状态中的 图1所示的气体供应管件12的结构视图。 图3为显示根据本发明的实施例的气体供应管件12 的修改例子的结构视图。 图4为显示根据本发明的实施例的气体供应管件12 的修改例子的结构视图。 图5为显示本发明的另一实施例中的冲净设备,晶 圆盒,晶圆盒盖子,及开启器的一部份在被垂直于 晶圆盒的开口的剖切平面剖切时的示意结构视图 。 图6为显示应用本发明的一般半导体晶圆处理设备 的示意结构的整体侧视图。 图7A为显示从侧面观看的图6所示的设备中的传统 开启器及其附近的示意结构放大视图。 图7B为显示从传递容室侧观看的图7A所示的结构的 示意结构视图。 图8为显示从侧面观看的在晶圆上实施冲净操作的 开启器及类似者的示意结构视图,其显示冲净操作 完成的状态。
地址 日本
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