| 主权项 |
1.一种真空泵浦,其包含: 一外壳,其具有第一侧面、与该第一侧面相向之第 二侧面、及一于该第一及第二侧面间之转子室; 一对螺旋转子,其彼此咬合而可旋转地置于该转子 室中,以于该外壳之一内部壁面及该对螺旋转子之 沟槽之间界定一气体传送室; 一进气口及一排气口,两者皆与该传送室相通; 其中该进气口系形成在该第一侧面中。 2.一种真空泵浦,其包含: 一外壳,其具有第一侧面、与该第一侧面相向之第 二侧面、及一于该第一及第二侧面间之转子室; 一对螺旋转子,其彼此咬合而可旋转地置于该转子 室中,以于该外壳之一内部壁面及该对螺旋转子之 沟槽之间界定一气体传送室; 一进气口及一排气口,两者皆与该传送室相通; 其中该排气口系形成在该第二侧面中。 3.如申请专利范围第1或2项之真空泵浦,其中该进 气口及该排气口之至少一个在垂直于该螺旋转子 轴心之方向中所视具有一实质上多角形状。 4.如申请专利范围第3项之真空泵浦,其中该进气口 及该排气口之至少一个在垂直于该螺旋转子轴心 之方向中所视实质上为五角形。 5.如申请专利范围第3项之真空泵浦,其中该进气口 及该排气口之至少一个在垂直于该螺旋转子轴心 之方向中所视具有一预定之形状,且该预定形状包 含实质上与该螺旋转子之一之沟槽延伸方向平行 延伸之第一倾斜部分,及实质上与该螺旋转子之另 一个之沟槽延伸方向平行延伸之第二倾斜部份。 6.如申请专利范围第5项之真空泵浦,其中该第一倾 斜部份系于与一包含该螺旋转子轴心之平面平行 之方向中由该第二倾斜部份偏置。 7.如申请专利范围第1或2项之真空泵浦,其中如在 垂直于该螺旋转子轴心之方向中所视,该进气口及 该排气口之至少一个在轴向中之长度系大于每一 螺旋转子之一节距之一半。 8.如申请专利范围第1或2项之真空泵浦,其中如在 垂直于该螺旋转子轴心之方向中所视,该螺旋转子 之咬合部份之部件系经过该排气口暴露至该真空 泵浦之外部。 9.如申请专利范围第8项之真空泵浦,其中该螺旋转 子之咬合部份之最低端系经过该排气口暴露至该 真空泵浦之外部。 10.如申请专利范围第1或2项之真空泵浦,其中如在 垂直于该螺旋转子轴心之方向中所视,该螺旋转子 之咬合部份之部件系经过该进气口暴露至该真空 泵浦之外部。 11.如申请专利范围第10项之真空泵浦,其中该螺旋 转子之咬合部份之最上端系经过该进气口暴露至 该真空泵浦之外部。 12.如申请专利范围第1项之真空泵浦,尚包含: 一收集器,其配置在该进气口上或于该进气口附近 。 13.如申请专利范围第1或2项之真空泵浦,其中该进 气口及该排气口系分别形成在该第一及第二侧面 中。 14.如申请专利范围第1或2项之真空泵浦,其中该进 气口及该排气口之至少一个具有一大于该螺旋转 子轴心间之距离之宽度。 15.如申请专利范围第1项之真空泵浦,其中如在垂 直于该螺旋转子轴心之方向中所视,该进气口于一 轴向中之最大长度系实质上等于每一螺旋转子之 一节距。 16.如申请专利范围第2项之真空泵浦,其中如在垂 直于该螺旋转子轴心之方向中所视,该排气口于一 轴向中之最大长度系实质上等于每一螺旋转子之 一节距。 图式简单说明: 图1系根据本发明第一具体实施例之真空排气装置 之一基本部份之剖开正面图。 图2系根据本发明具体实施例之真空排气装置之基 本部份之剖开侧面图。 图3系根据一习知具体实施例之真空排气装置之一 基本部份之剖开正面图。 图4系根据该习知具体实施例之真空排气装置之基 本部份之剖开侧面图。 图5系根据本发明第二具体实施例之真空排气装置 之一基本部份之剖开正面图。 图6系根据本发明第二具体实施例之真空排气装置 之基本部份之剖开侧面图。 图7系根据本发明第三具体实施例之真空排气装置 之一基本部份之剖开正面图。 图8系根据本发明第三具体实施例之真空排气装置 之基本部份之剖开后面图。 |
