发明名称 影像感测器之点胶封装构造及方法
摘要 一种影像感测器之点胶封装构造主要包含一具有一容晶穴之基板、一影像感测晶片、复数个焊线、一点胶拦坝以及一密封胶。当该影像感测晶片设置于该容晶穴内,该影像感测晶片之一主动面系约略与该基板之一上表面为共平面。在该些焊线电性连接该基板与该影像感测晶片之后,该点胶拦坝系能容易地点胶形成该基板之该上表面上,以具有较佳之点胶拦坝外观。而被该点胶拦坝所限制之该密封胶系能一次点胶形成于该基板之上表面与该影像感测晶片之主动面,以密封该些焊线,并且减少点胶次数。
申请公布号 TWI278122 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW094120221 申请日期 2005.06.17
申请人 日月光半导体制造股份有限公司 发明人 古顺延
分类号 H01L31/0203(2006.01) 主分类号 H01L31/0203(2006.01)
代理机构 代理人 张启威 高雄市鼓山区龙胜路68号
主权项 1.一种影像感测器之点胶封装构造,包含: 一基板,其系具有一上表面与一容晶穴; 一影像感测晶片,其系具有一主动面,该影像感测 晶片系设置于该基板之该容晶穴内,该主动面系约 略与该基板之该上表面为共平面; 复数个焊线,其系电性连接该基板与该影像感测晶 片; 一点胶拦坝,其系形成于该基板之该上表面,以环 绕该些焊线,该点胶拦坝更延伸至该影像感测晶片 之该主动面上;以及 一密封胶,其系形成在该影像感测晶片之该主动面 上与该基板之该上表面上,并且被该点胶拦坝所限 制,以密封该些焊线。 2.如申请专利范围第1项所述之影像感测器之点胶 封装构造,其中该点胶拦坝系为「ㄇ」形,且其两 端延伸至该影像感测晶片之该主动面。 3.如申请专利范围第1项所述之影像感测器之点胶 封装构造,其中该基板之该容晶穴之深度系约等同 该影像感测晶片之厚度。 4.如申请专利范围第1项所述之影像感测器之点胶 封装构造,其中该基板系设有复数个位于该上表面 之连接垫,且该影像感测晶片系设有复数个位于该 主动面之焊垫,该些焊线系连接该些连接垫与该些 焊垫。 5.如申请专利范围第4项所述之影像感测器之点胶 封装构造,其中该些焊垫系邻近于该影像感测晶片 之该主动面之其中两侧边。 6.如申请专利范围第1项所述之影像感测器之点胶 封装构造,其另包含有一透光片,其系设置于该影 像感测晶片之该主动面上,以遮护该影像感测晶片 之一感测区。 7.如申请专利范围第1项所述之影像感测器之点胶 封装构造,其中该影像感测晶片系为一CMOS影像感 测晶片。 8.如申请专利范围第1项所述之影像感测器之点胶 封装构造,其中该密封胶系为点胶形成。 9.一种影像感测器之点胶封装方法,包含: 提供一基板,该基板系具有一上表面与一容晶穴; 设置一影像感测晶片于该基板之该容晶穴内,该影 像感测晶片系具有一主动面,该主动面系约略与该 基板之该上表面为共平面; 形成复数个焊线,以电性连接该基板与该影像感测 晶片; 形成一点胶拦坝于该基板之该上表面,以环绕该些 焊线,该点胶拦坝更延伸至该影像感测晶片之该主 动面上;以及 形成一密封胶于该影像感测晶片之该主动面上与 该基板之该上表面,且该密封胶系被该点胶拦坝所 限制,以密封该些焊线。 10.如申请专利范围第9项所述之影像感测器之点胶 封装方法,其中该点胶拦坝系为「ㄇ」形,以其两 端延伸至该影像感测晶片之该主动面。 11.如申请专利范围第9项所述之影像感测器之点胶 封装方法,其中该基板之该容晶穴之深度系约等同 该影像感测晶片之厚度。 12.如申请专利范围第9项所述之影像感测器之点胶 封装方法,其中该基板系设有复数个位于该上表面 之连接垫,且该影像感测晶片系设有复数个位于该 主动面之焊垫,而该些焊线系连接该些连接垫与该 些焊垫。 13.如申请专利范围第12项所述之影像感测器之点 胶封装方法,其中该些焊垫系邻近于该影像感测晶 片之该主动面之其中两侧边。 14.如申请专利范围第9项所述之影像感测器之点胶 封装方法,其中该影像感测晶片之该主动面上系已 设置有一透光片,以遮护该影像感测晶片之一感测 区。 15.如申请专利范围第9项所述之影像感测器之点胶 封装方法,其中该影像感测晶片系为一CMOS影像感 测晶片。 16.如申请专利范围第9项所述之影像感测器之点胶 封装方法,其中该密封胶系为点胶形成。 图式简单说明: 第1图:习知影像感测器之点胶封装构造之截面示 意图。 第2A至2D图:习知影像感测器之点胶封装构造在制 造过程之上视图。 第3图:依据本发明之一具体实施例,一种影像感测 器之点胶封装构造之截面示意图。 第4A至4B图:依据本发明之一具体实施例,该影像感 测器之点胶封装构造在制造过程之上视图。
地址 高雄市楠梓加工出口区经三路26号