发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 在以往的半导体装置中,由于向构成隔离区域的P型的扩散层的横方向的扩散变宽,有难以缩小设备大小的问题。在本发明的半导体装置中,在P型的单晶矽基板(6)上形成有N型的外延层(8)。基板(6)及外延层(8)由隔离区域(3)划分为复数个元件形成区域。连结P型的埋入扩散层(47)和P型的扩散层(48)而形成隔离区域(3)。而且,P型的埋入扩散层(47)与N型的埋入扩散层(7、30)形成PN结。另一方面,P型的扩散层(48)与N型的扩散层(19、40)形成PN结。通过该结构,P型的埋入扩散层(47)及P型扩散层(48),能够抑制横方向的扩散变宽,缩小设备大小。
申请公布号 TW200713493 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW095134934 申请日期 2006.09.21
申请人 三洋电机股份有限公司 发明人 大竹诚治;神田良;菊地修一
分类号 H01L21/76(2006.01);H01L21/761(2006.01) 主分类号 H01L21/76(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本