半导体装置之制造方法及半导体制造设备

摘要

藉由使半导体表面以包含HF2-离子及氧化剂之溶液加以氢终结化，能迅速地进行氢终结化。此情形中，半导体表面为具有(111)晶面、(110)晶面、或(551)晶面之矽。