离子注入装置

摘要

本发明是在于提供一种在对晶圆进行离子注入时，不会使气体滞留于晶圆附近之离子注入装置构造。该离子注入装置具备：旋转于一定方向的旋转体；收纳旋转体的真空处理室；及对载置于旋转体上的晶圆照射离子射束之离子射束射出部；又，旋转体具备：在一方面具有晶圆载置面的1个以上的晶圆载置板；使晶圆载置板旋转的驱动部；及由一方面突出设置，在旋转方向前方侧具有气体排除用壁面的气体排除构件；藉由晶圆载置板的旋转，气体排除用壁面会冲突于晶圆载置板的一方面侧所存在的气体，而使该气体能够排除至晶圆载置面的上方或背面。