发明名称 装置制造方法,光罩及装置
摘要 本发明揭示一种方法,其供用于制造CCD或CMOS影像感应器,其中一图案化辐射光束会投影至一由一层彩色辐射感应材料所覆盖之基板上。该图案化辐射光束包括一用以于产物晶粒之区中形成装置特征的图案,以及一用以于其他区中形成一对准标记特征的图案。以上所述使对准于一彩色光阻下之对准标记上的困难得以免除。
申请公布号 TW200712759 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW095130303 申请日期 2006.08.17
申请人 ASML公司 发明人 亨力克斯 乔汉那 兰伯特 麦更;LAMBERTUS
分类号 G03F1/14(2006.01);G03F1/08(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F1/14(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰