| 发明名称 |
铟.钐氧化物系溅镀靶 |
| 摘要 |
本发明系提供一种溅镀靶，其特征为由铟及钐为主成分的氧化物烧结体所构成，以及一种溅镀靶，其特征为于铟及钐为主成分的氧化物烧结体，以对全部正离子元素的总量为20原子％，掺杂至少1种的具有正四价以上的原子价的元素。 |
| 申请公布号 |
TW200712232 |
申请公布日期 |
2007.04.01 |
| 申请号 |
TW095123205 |
申请日期 |
2006.06.27 |
| 申请人 |
出光兴产股份有限公司 |
发明人 |
井上一吉;田中信夫;笘井重和;松原雅人;海上晓;矢野公规 |
| 分类号 |
C23C14/34(2006.01);C23C14/14(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
