发明名称 成膜装置,薄膜的制造装置及成膜方法
摘要 本发明系提供一种成膜装置,系在使复数膜的层积在短时间内成膜。本发明的成膜装置5R、5G、5B系具有移动室45和旋转平台51,于旋转平台51的窗部52上搭载载置有基板9的载置板61。使旋转平台51旋转而移动窗部52时,载置板61在搭载基板9的状况下,与窗部52一起移动。仅特定角度旋转旋转平台51,从搬入场所56a输送新的基板9,将成膜处理毕的基板9输送至其他成膜场所57,使空的载置板61从搬出场所56b一次返回至搬入场所56a,因此可缩短将基板9搬运至各场所56a、56b、57的时间、或载置板61返回的时间。
申请公布号 TW200712229 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW095121279 申请日期 2006.06.14
申请人 爱发科股份有限公司 发明人 根岸敏夫
分类号 C23C14/24(2006.01);C23C14/56(2006.01) 主分类号 C23C14/24(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本