抗反射硬质罩幕组成物以及用于使用该抗反射硬质罩幕组成物之方法(二) ANTIREFLECTIVE HARDMASK COMPOSITION AND METHODS FOR USING SAME

摘要

本发明系提供可用于微影制程之具有抗反射性质的硬质光罩组成物、其使用方法，以及由此方法所制成之半导体装置。本发明抗反射硬质光罩组成物系包含：(a)一聚合物组份，其包含至少一聚合物，该聚合物具有一具有化学式(I)之单体单元其中R1及R2可以各自独立是氢、羟基、C1–10烷基、C6–10芳基、烯丙基或卤素；R3及R4可以各自独立是氢、一交联官能基或一色基；R5及R6可以各自独立是氢或一具有化学式(II)结构之烷氧基矽氧烷，其中于至少一具有化学式(I)之单体单元中，至少一R5及R6是该具有化学式(II)结构之烷氧基矽烷；其中R8、R9及R10可以各自独立是氢、烷基或芳基；且x是0或一正整数；R7是选自于由氢、C1–10烷基、C6–10芳基及烯丙基所组成之群组；且n是一正整数；(b)一交联组份；以及(c)一酸催化剂。