高解析度含矽光阻

摘要

含矽之非化学放大辐射敏感光阻组成物特别有利于微影应用，尤其是电子束(E–beam)微影法。更确切而言，辐射敏感光阻组成物包含具有至少一含矽部分体及至少一辐射敏感部分体之一聚合物，该辐射敏感部分体经照射可断裂以形成可溶于硷溶液的部分体，系用以制作具有极少或无模糊之次50奈米特征之图案。