| 摘要 |
本发明之目的在提供一种潜伏性触媒之制造方法，其制成之潜伏性触媒在成形时可表现优良之触媒作用，因此可制成硬化性、流动性及保存性佳之树脂组成物，其时间短、收率高、且不混入离子性不纯物。本发明亦为关于一种矽酸鏻潜伏性触媒之制造方法，该制造方法系一种以如式(1)所示之质子提供物(A)，与三烷氧基矽烷化合物(B)，与如式(2)所示之鏻盐化合物(D)反应，制成矽酸鏻潜伏性触媒之方法，其特征是在烷氧金属化合物(C)之共存下反应者。[式中之Y1及Y2可互相相同或不同而分别表示质子提供性取代基释出1个质子而形成之基。Z1表示与质子提供性取代基Y1H及Y2H键结之取代或未取代之有机基，同一分子内之2个取代基Y1及Y2可与矽原子键结形成螯合构造者。][式中之R1、R2、R3及R4可互相相同或不同，而分别表示有为取代或未取代之芳环或含杂环之有机基、或取代或未取代之脂族基。式中之X-为卤离子、氢氧离子、或其质子提供性基释出1个质子而形成之阴离子。] |
