发明名称 涂膜形成方法
摘要 课题提供对于基板,例如将显影液,洗净液,SOG溶液,光阻液等涂布液予以涂布之际,可减低涂布开始点周边的涂膜堆积,且也可减低涂膜整体的起波浪的涂膜形成方法。解决手段一种涂膜形成方法,属于藉由从相对地移动于被涂物1面上的开缝喷嘴2所供给的涂布液,于上述被涂物1面形成均匀性涂膜的方法,其特征为:开始涂布时,将上述开缝喷嘴2的涂布液吐出口2b接近于被涂物1面,之后,藉由驱动涂布液送液泵3,以涂布液连结上述涂布液吐出口2b与上述被涂物1面之间,然后,将上述涂布液的连结状态维持所定时间之后,开始涂布。
申请公布号 TW200711750 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW095126960 申请日期 2006.07.24
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 山口和伸;升芳明
分类号 B05D1/26(2006.01);B05D1/40(2006.01) 主分类号 B05D1/26(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本