发明名称 配线基板之制造方法
摘要 本发明系提供一种可藉由无电解电镀确实地对配线图案之外表面进行电镀之配线基板之制造方法。该配线基板之制造方法包含有以下步骤:藉由对业经进行触媒处理之绝缘层表面进行无电解电镀来形成电镀保护层;于该电镀保护层表面形成光阻剂图案;以该光阻剂图案作为光罩电解电镀前述电镀保护层作为馈电层,藉此形成配线图案;及在将前述光阻剂图案除去后,将前述电镀保护层之露出部位除去,再利用无电解电镀对前述配线图案之外表面进行无电解电镀者,其特征在于:在将前述电镀保护层之露出部位除去后,利用异向性乾蚀刻对前述绝缘层之露出部位进行蚀刻,然后利用无电解电镀对前述配线图案之外表面进行电镀者。
申请公布号 TWI278264 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW095106351 申请日期 2006.02.24
申请人 富士通股份有限公司 发明人 柴田宗量;荒井和也;高野宪治;饭田宪司
分类号 H05K3/08(2006.01);H05K3/24(2006.01) 主分类号 H05K3/08(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 1.一种配线基板之制造方法,包含有以下步骤: 藉由对业经进行触媒处理之绝缘层表面进行无电 解电镀来形成电镀保护层; 于该电镀保护层表面形成光阻剂图案; 以该光阻剂图案作为光罩电解电镀前述电镀保护 层作为馈电层,藉此形成配线图案;及 在将前述光阻剂图案除去后,将前述电镀保护层之 露出部位除去,再利用无电解电镀对前述配线图案 之外表面进行无电解电镀者, 其特征在于:在将前述电镀保护层之露出部位除去 后,利用异向性乾蚀刻对前述绝缘层之露出部位进 行蚀刻,然后利用无电解电镀对前述配线图案之外 表面进行电镀者。 2.如申请专利范围第1项之配线基板之制造方法,系 在对前述绝缘层之表面进行表面粗化处理后,使钯 触媒核吸附在前述绝缘层之表面,作为前述触媒处 理。 3.如申请专利范围第1项之配线基板之制造方法,系 依序进行无电解镍电镀和无电解金电镀,作为对前 述配线图案之外表面进行之无电解电镀。 图式简单说明: 第1A图至第1F图系显示本发明之配线基板之制造方 法的说明图。 第2A图、第2B图系显示本发明之配线基板之制造方 法的说明图。 第3图系显示本发明之配线基板之制造方法的流程 图。 第4图系显示进行异向性乾蚀刻后绝缘层之状态的 截面照片。 第5图系显示相对于绝缘层之蚀刻量而残留在绝缘 层表面之钯量的图表。 第6图系显示配线基板之截面图。 第7A图、第7B图系显示对配线图案进行无电解电镀 前后之状态的说明图。 第8图系显示习知配线基板之制造方法的流程图。 第9图系显示无电解电镀层附着在绝缘层表面之状 态的截面照片。 第10图系显示无电解电镀层附着在绝缘层表面之 状态的电子显微镜照片。 第11图系显示将防焊油墨涂布在绝缘层表面后再 对配线图案表面进行电镀之习知方法的说明图。
地址 日本