| 主权项 |
1.一种电浆处理装置,其包括: 一处理腔体; 一下电极板,位于该处理腔体内,其上可放置欲进 行电浆处理之一基板; 一气体供应系统,用以供应气体至该处理腔体内; 一上电极板,位于该处理腔体内,下电极板之上方; 以及 一电源,用以施加电压差于该上、下电极板之间, 以使该处理腔体内之气体转变为电浆; 其中该上电极板包括: 一气体分配板,其具有上部和底部,其底部具有复 数个气体气孔,该气体气孔与该气体供应系统连通 ,使得气体可经由该气体气孔而供应到该处理腔体 内; 一绝缘盖板,系盖在该气体分配板之上部;以及 复数个固定部,用以固定该气体分配板和绝缘盖板 ,每个固定部包括一螺丝和一螺帽,该螺丝包括一 头部和一杆部,且该螺丝头部上具有外螺纹,该螺 帽系由绝缘物质所形成,每个螺帽之内表面具有与 该螺丝头部的外螺纹相对应的内螺纹,以与每个螺 丝头部互相锁合。 2.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中 该螺帽系由陶瓷所形成。 3.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中 该绝缘盖板系由四片绝缘盖板所拼成,该气体分配 板系呈十字形,且位于该绝缘盖板之接缝处。 4.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中 该气体分配板系由金属所形成。 5.如申请专利范围第4项所述之电浆处理装置,其中 该气体分配板系由铝所形成。 6.如申请专利范围第5项所述之电浆处理装置,其中 该气体分配板之表面有阳极氧化处理。 7.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中 该绝缘盖板系由陶瓷所形成。 8.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中 该螺丝系由金属所形成。 9.如申请专利范围第8项所述之电浆处理装置,其中 该螺丝系由铝所形成。 10.如申请专利范围第9项所述之电浆处理装置,其 中该螺丝之表面有阳极氧化处理。 11.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其 中该电源为无线电波波频(radio frequency; RF)。 12.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其 中该电浆处理装置为感应耦合电浆(inductively coupled plasma; ICP)处理装置。 图式简单说明: 第1图显示传统电浆处理装置的示意图。 第2图显示传统上电极板之底面图。 第3图显示传统用于固定气体分配板和陶瓷盖板的 螺丝之构造。 第4图显示依据本发明较佳实施例之电浆处理装置 的示意图。 第5图显示本发明上电极板之底面示意图。 第6图显示本发明固定部之构造,以及固定部与气 体分配板和绝缘盖板的结合情形。 |
