发明名称 照明装置、使用其之光照射装置暨使用该光照射装置之光反应产物薄片之制造方法
摘要 本发明提供一种照明装置,其包括圆柱形光源及用于使发射自圆柱形光源之光反射之曲面反射镜,其中该曲面反射镜具有一光反射表面,该光反射表面在垂直于光源之轴向之横截面中具有椭圆曲线之一部分的形状,该椭圆曲线具有在曲面之参考轴上之第一焦点及第二焦点,且该圆柱形光源系设置于参考轴上之在第一焦点与第二焦点之间的位置;一种包括此照明装置之光照射装置;及一种利用此照射装置制造光反应产物薄片之方法。
申请公布号 TWI277710 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW094103190 申请日期 2005.02.02
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 广濑阀
分类号 F21V7/08(2006.01);C08F2/46(2006.01) 主分类号 F21V7/08(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号1112室;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号1112室
主权项 1.一种照明装置,包括圆柱形光源及用于使发射自 圆柱形光源之光反射之曲面反射镜, 其中该曲面反射镜具有一光反射表面,该光反射表 面在垂直于光源之轴向之横截面中具有椭圆曲线 之一部分的形状,该椭圆曲线具有在曲面之参考轴 上之第一焦点及第二焦点,且该圆柱形光源系设置 于参考轴上之在第一焦点与第二焦点之间的位置 。 2.如申请专利范围第1项之照明装置, 其中在第一焦点与曲面反射镜之底部点之间的距 离L1系1至40毫米;在第一焦点与第二焦点之间的距 离L2系50至200毫米;在圆柱形光源之光源中心与曲 面反射镜之底部点之间的距离L3系20至130毫米;及L3 大于L1,且L1与L2之总和大于L3。 3.如申请专利范围第1项之照明装置, 其中在一主体上照度变化落于1毫瓦/平方公分内 之以圆柱形光源为中心的照射区域的长度不低于1 ,000毫米。 4.一种照明装置,包括圆柱形光源及用于使发射自 圆柱形光源之光反射之曲面反射镜, 其中该曲面反射镜具有一光反射表面,该光反射表 面在垂直于光源之轴向的横截面中具有抛物线之 一部分的形状,该抛物线具有在曲面之参考轴上之 焦点,且该圆柱形光源系设置于参考轴上之在曲面 反射镜之底部点与焦点之间的位置。 5.如申请专利范围第4项之照明装置, 其中在焦点与曲面反射镜之底部点之间的距离L4 系40至200毫米;在圆柱形光源之光源中心与曲面反 射镜之底部点之间的距离L5系5至50毫米;及L4大于L5 。 6.如申请专利范围第4项之照明装置, 其中在一主体上照度变化落于1毫瓦/平方公分内 之以圆柱形光源为中心的照射区域的长度不低于1 ,000毫米。 7.一种光照射装置,包括申请专利范围第1项之照明 装置。 8.一种光照射装置,包括申请专利范围第4项之照明 装置。 9.一种光反应产物薄片之制造方法,包括利用申请 专利范围第7项之照射装置将光照射至光反应性组 成物。 10.一种光反应产物薄片之制造方法,包括利用申请 专利范围第8项之照射装置将光照射至光反应性组 成物。 图式简单说明: 图1系根据本发明之照明装置之一具体例的侧视横 剖面示意图。 图2系显示图1所示之照明装置之照度分布的图式 。 图3系显示使用图1所示之照明装置之光照射装置 之基本部分的示意图。 图4系显示由图3所示之照明装置发射于主体表面 上之照度分布的图式。 图5系根据本发明之照明装置之另一具体例之侧视 横剖面图。 图6系习知之照明装置的侧视横剖面示意图。 图7系显示图6所示之照明装置之照度分布的图式 。
地址 日本