发明名称 铝盐溶液之制法,铝盐溶液,铝盐,使用彼之水纯化装置,及使用彼所得之物件
摘要 一种铝盐溶液之制法,其包括藉由使用一种由拜耳法制备之具有0.04质量%或更少之T-C(总碳量)和小于0.3质量%之T-Na2O(总Na2O量)的氢氧化铝作为原料制造铝盐溶液。
申请公布号 TWI277604 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW094122421 申请日期 2005.07.01
申请人 昭和电工股份有限公司 发明人 石川功
分类号 C01F7/74(2006.01);C01F7/04(2006.01);C01F7/47(2006.01);C02F1/52(2006.01) 主分类号 C01F7/74(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种铝盐溶液之制法,其包含藉由使用一种由拜 耳法制备之具有0.04质量%或更少之T-C(总碳量)和小 于0.3质量%之T-Na2O(总Na2O量)的氢氧化铝作为原料制 造铝盐溶液。 2.如申请专利范围第1项之铝盐溶液之制法,其中该 方法进一步包含一种藉由将四级铵盐加至一种包 含红泥之铝酸钠溶液的浆料,接着从浆料分离出红 泥,和沈淀及分离氢氧化铝之制造氢氧化铝的步骤 。 3.如申请专利范围第2项之铝盐溶液之制法,其中所 加入四级铵盐之量为5毫克/升(根据纯含量)或更多 ,以包含红泥的铝酸钠溶液之浆料为基准。 4.如申请专利范围第2项之铝盐溶液之制法,其中包 含红泥的铝酸钠溶液之浆料中的Na浓度在加入四 级铵盐之后为从100到250克/升(根据NaOH)。 5.如申请专利范围第2项之铝盐溶液之制法,其中在 制造氢氧化铝之步骤中,将氢氧化铝晶种浆料加至 铝酸钠溶液,从其除去红泥,藉此沈淀氢氧化铝。 6.如申请专利范围第1项之铝盐溶液之制法,其中氢 氧化铝之平均二级粒径为从1到150微米。 7.如申请专利范围第1项之铝盐溶液之制法,其中氢 氧化铝之平均一级粒径为从0.5到70微米,和以氢氧 化铝之平均二级粒径D2对平均一级粒径D1的比(D2/D1 )表示之聚集度为从10到40。 8.如申请专利范围第1项之铝盐溶液之制法,其中铝 盐为硫酸铝或聚-氯化铝。 9.如申请专利范围第8项之铝盐溶液之制法,其中氢 氧化铝在加热下溶解于硫酸或盐酸中,藉此获得铝 盐溶液。 10.一种水纯化装置,其包含:一混合槽,在其中如申 请专利范围第8项之铝盐溶液之制法所制造之铝盐 溶液加至废水以获得一种混合溶液;和一沈淀槽, 在其中从混合溶液沈淀出聚集体。 11.如申请专利范围第8项之铝盐溶液之制法,其中 所制得铝盐溶液系用于制造纸。 12.如申请专利范围第8项之铝盐溶液之制法,其中 所制得铝盐溶液系用于将布料染色。 13.如申请专利范围第8项之铝盐溶液之制法,其中 所制得铝盐溶液系用于制造铝化合物。 14.如申请专利范围第8项之铝盐溶液之制法,其中 所制得铝盐溶液系用于制造白色皮革。 15.如申请专利范围第8项之铝盐溶液之制法,其中 所制得铝盐溶液系用于将油类及脂肪中之一者澄 清。 16.如申请专利范围第8项之铝盐溶液之制法,其中 所制得铝盐溶液系用于制造催化剂。
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