| 主权项 |
1.一种基板处理装置,被配置成邻接曝光装置,其具 备有: 处理部,用来对基板进行处理;和 交接部,用来在上述处理部和上述曝光装置之间进 行基板之交接; 上述处理部包含有第1处理单元,用来进行基板之 乾燥处理; 上述交接部包含有: 装载部,用来暂时地装载基板; 第1搬运单元,用来在上述处理部和上述装载部之 间搬运基板; 第2搬运单元,用来在上述装载部和上述曝光装置 之间搬运基板;和 第3搬运单元,用来在上述装载部和上述第1处理单 元之间搬运基板; 上述第2搬运单元具备有用来保持基板之第1和第2 保持部; 上述第2搬运单元在将基板从上述装载部搬运到上 述曝光装置时,利用上述第1保持部保持基板,在将 基板从上述曝光装置搬运到上述装载部时,利用上 述第2保持部保持基板; 上述第3搬运单元具备有用来保持基板之第3和第4 保持部;和 上述第3搬运单元在将基板从上述第1处理单元搬 运到上述装载部时,利用上述第3保持部保持基板, 在将基板从上述装载部搬运到上述第1处理单元时 ,利用上述第4保持部保持基板。 2.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述 第2保持部被设在上述第1保持部之下方。 3.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述 第4保持部被设在上述第3保持部之下方。 4.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中 上述交接部更包含有第2处理单元,用来对基板进 行指定之处理;和 上述第1搬运单元在上述处理部,上述第2处理单元 和上述装载部之间搬运基板。 5.如申请专利范围第4项之基板处理装置,其中上述 第2处理单元包含有边缘曝光部,用来对基板之周 缘部进行曝光。 6.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述 处理部更包含有第3处理单元,在利用上述曝光装 置进行曝光处理之前,在基板上形成由感光性材料 构成之感光性膜。 7.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述 第1处理单元在利用上述第1处理单元进行上述基 板之乾燥处理前,更进行基板之洗净处理。 8.如申请专利范围第7项之基板处理装置,其中上述 第1处理单元具备有: 基板保持装置,用来将基板保持成为大致水平; 旋转驱动装置,用来使被上述基板保持装置保持之 基板,在垂直该基板之轴的周围进行旋转; 洗净液供给部,用来对被上述基板保持装置保持之 基板上供给洗净液;和 惰性气体供给部,在利用洗净液供给部对基板上供 给洗净液之后,对基板上供给惰性气体。 9.如申请专利范围第8项之基板处理装置,其中上述 惰性气体供给部供给惰性气体,使利用上述洗净液 供给部供给到基板上之洗净液,从基板上之中心部 朝向外方移动,用来将其从基板上排除。 10.如申请专利范围第8项之基板处理装置,其中上 述第1处理单元更具备有冲洗液供给部,在利用上 述洗净液供给部供给洗净液之后,且利用上述惰性 气体供给部供给惰性气体之前,对基板上供给冲洗 液。 11.如申请专利范围第10项之基板处理装置,其中上 述惰性气体供给部供给惰性气体,使利用上述冲洗 液供给部供给到基板上之冲洗液,从基板上之中心 部朝向外方移动,用来将其从基板上排除。 12.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上 述处理部包含有用来对基板进行药液处理之药液 处理单元,和用来对基板进行热处理之热处理单元 。 13.一种基板处理方法,用来在基板处理装置对基板 进行处理,该基板处理装置被配置成邻接曝光装置 ,具备有:处理部;第1搬运单元;具备有第1和第2保持 部之第2搬运单元;具备有第3和第4保持部之第3搬 运单元;第1处理单元;和装载部;该基板处理方法所 具备之步骤包含有: 利用上述处理部对基板进行指定之处理; 利用上述第1搬运单元将被上述处理部处理过之基 板搬运到上述装载部; 利用上述第2搬运单元之上述第1保持部一边保持 基板,一边将其从上述装载部搬运到上述曝光装置 ; 利用上述第2搬运单元之上述第2保持部一边保持 从上述曝光装置搬出之基板,一边将其搬运到上述 装载部; 利用上述第3搬运单元之上述第4保持部一边保持 基板,一边将其从上述装载部搬运到上述第1处理 单元; 利用上述第1处理单元进行基板之乾燥处理; 利用上述第3搬运单元之上述第3保持部一边保持 从上述第1处理单元搬出之基板,一边将其搬运到 上述装载部;和 利用上述第1搬运单元将基板从上述装载部搬运到 上述处理部。 14.如申请专利范围第13项之基板处理方法,其中在 利用上述第3搬运单元将基板从上述装载部搬运到 上述第1处理单元之步骤后,且利用上述第1处理单 元进行基板之乾燥处理之步骤之前,更包含有利用 上述第1处理单元进行基板之洗净之步骤。 图式简单说明: 图1是本发明之一实施形态之基板处理装置之平面 图。 图2是从+X方向看图1之基板处理装置之侧面图。 图3是从-X方向看图1之基板处理装置之侧面图。 图4用来说明乾燥处理单元之构造。 图5(a)~(c)用来说明乾燥处理单元之动作。 图6是将洗净处理用喷嘴和乾燥处理用喷嘴设置成 为一体之情况时之概略图。 图7是表示乾燥处理用喷嘴之另一实例之概略图。 图8(a)~(c)用来说明使用图7之乾燥处理用喷嘴之情 况时之基板之乾燥处理方法。 图9是表示乾燥处理用喷嘴之另一实例之概略图。 图10是表示乾燥处理单元之另一实例之概略图。 图11用来说明使用图10之乾燥处理单元之情况时之 基板之乾燥处理方法。 图12用来说明第5中央机器人和介面用搬运机构之 构造和动作。 |
