发明名称 抗电浆弹性体构件
摘要 表面磁通量密度至少为10高斯之弹性体构件可使部分反应性电浆偏斜不与该构件表面接触。故,与表面不具有此一磁通量密度之类似弹性体构件相比,该等构件可更长期暴露于反应性电浆且具有更低之降解。
申请公布号 TWI277633 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW092130044 申请日期 2003.10.29
申请人 杜邦陶式弹性体公司 发明人 岩本香;赖文一;十河信一
分类号 C08K3/08(2006.01);C08K3/22(2006.01);H01F1/08(2006.01) 主分类号 C08K3/08(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种用于保护弹性体构件之表面避免因暴露于 反应性电浆而降解之方法,该方法包含在暴露该构 件至反应性电浆前,给予至少10高斯之磁通量密度 至该构件之表面,因而该构件之重量损失至少20%低 于第二相似的弹性体构件之重量损失,该第二构件 系于相似的情况下暴露于反应性电浆,于其表面上 不具有至少10高斯之磁通量。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中该磁通量密度 至少为200高斯。 3.如申请专利范围第1项之方法,其中一磁通量密度 源系包含于该构件中之磁性材料。 4.如申请专利范围第3项之方法,其中该磁性材料系 至少一个选自由永久磁铁及电磁铁组成之群之磁 铁。 5.如申请专利范围第4项之方法,其中该永久磁铁系 选自由铁氧体磁铁、铁氧体-橡胶磁铁、铝-镍-钴 磁铁、钐-钴磁铁及钕磁铁组成之群。 6.如申请专利范围第1项之方法,其中一磁通量密度 源系一或多个位于构件外部之磁铁,其中该磁铁靠 近当使用时暴露于电浆之该构件之表面。 7.一种暴露于反应性电浆之狭缝阀门,该阀门具有 一密封表面及一安装于该密封表面上之弹性体构 件,且其中至少一个磁铁安装于该门上,该磁铁安 装于靠近该弹性体构件之位置,当使用时,该弹性 体构件表面暴露于反应性电浆,以使该弹性体构件 表面上之磁通量密度至少为10高斯,因而该构件之 重量损失至少20%低于第二相似的弹性体构件之重 量损失,该第二构件系于相似的情况下暴露于反应 性电浆,于其表面上不具有至少10高斯之磁通量。 8.一种暴露于反应性电浆之管凸缘,该凸缘具有一 密封表面及一安装于该密封表面上之弹性体构件 且其中至少一个磁铁安装于该密封表面上,该磁铁 靠近该弹性体构件安装,当使用时,该弹性体构件 表面暴露于反应性电浆,以使该弹性体构件表面上 之磁通量密度至少为10高斯,因而该构件之重量损 失至少20%低于第二相似的弹性体构件之重量损失, 该第二构件系于相似的情况下暴露于反应性电浆, 于其表面上不具有至少10高斯之磁通量。 图式简单说明: 图1显示本发明之一O形环密封之俯视侧视图,该O形 环密封包含复数个内部永久磁铁,其中磁极沿相同 方向对准布置。 图2A及2B分别显示本发明之弹性体构件(即,一O形环 密封)之平面图及一沿线2B-2B之剖面图,该构件具有 一靠近该O形环表面安装之外部磁铁。 图3A及3B分别显示一安装于一狭缝阀门中之本发明 之弹性体构件(即,一O形环密封)之平面图及一沿线 3B-3B之剖面图,该构件具有复数个靠近该构件表面 安装之外部磁铁。 图4A及4B分别显示一安装于一管凸缘中之本发明之 弹性体构件(即,一O形环密封)之平面图及一沿线4B- 4B之剖面图,该构件具有复数个靠近该构件表面安 装之外部磁铁。
地址 美国