| 主权项 |
1.一种产生一光罩图案的方法,其包含: (a)接收代表需要印刷之一或多个特征的一元件图 案; (b)产生该光罩图案,其包含来自紧靠具有一第二强 度位准之一背景材料的具有一第一强度位准之该 元件图案的一或多个特征,以及具有一第三强度位 准的至少一个校正特征,该第三强度位准介于该等 第一与第二强度位准之间。 2.如请求项1之方法,其中步骤(b)包含: (b1)采用一校正核心卷曲该元件图案。 3.如请求项2之方法,其中该校正核心系二维的。 4.如请求项2之方法,其中该校正核心系一维的,以 及步骤(b)进一步包含: (b2)采用一第二校正核心卷曲该元件图案,该第二 校正核心系一维的并垂直于该校正核心。 5.如请求项1之方法,其中该产生包含依据至少一个 预定规则插入校正特征。 6.如请求项1之方法,其中步骤(b)包含: (b1)根据将该校正特征之校正强度与印刷特征之接 近度相关插入校正特征。 7.如请求项1之方法,其进一步包含: (c)产生一资料档案,其系格式化成用于控制一可程 式图案化阵列,以将该光罩图案赋予至一光束。 8.如请求项1之方法,其进一步包含: (c)模拟将在一微影投影装置中产生于该光罩图案 之投影上的一空中影像; (d)比较该模拟空中影像与该元件图案;以及 (e)修改该光罩图案,以使得该修改光罩图案之一修 改空中影像更相似于该元件图案。 9.如请求项8之方法,其中步骤(e)包含: (e1)根据步骤(d)之结果产生一校正核心;以及 (e2)采用一校正核心卷曲该光罩图案,以产生该修 改光罩图案。 10.如请求项8项之方法,其中可以一预定次数重复 步骤(c)至(e)。 11.如请求项8项之方法,其中步骤(c)至(e)可被重复 至该比较之一结果低于一预定限定値。 12.一种元件制造方法,其包含: (a)接收代表需要印刷之特征的一元件图案; (b)产生一光罩图案,其包含紧靠具有一第二强度位 准之一背景材料的具有一第一强度位准之元件特 征,以及具有一第三强度位准的至少一个校正特征 ,该第三强度位准介于该等第一与第二强度位准之 间; (c)依据该光罩图案使用一可个别控制部件之图案 化阵列以空间调变一光束;以及 (d)将该图案化辐射光束投射至一基板之一目标部 分上。 13.如请求项12之方法,其中步骤(b)包含: 采用一校正核心卷曲该元件图案。 14.如请求项13之方法,其中该校正核心系二维的。 15.如请求项13之方法,其中该校正核心系一维的,以 及步骤(b)进一步包含: (b2)采用一第二校正核心卷曲该元件图案,该第二 校正核心系一维的并垂直于该校正核心。 16.如请求项12之方法,其中步骤(b)包含: 依据至少一个预定规则插入校正特征。 17.如请求项12之方法,其中步骤(b)包含: 透过该校正特征之校正强度与印刷特征之接近度 的相关插入校正特征。 18.如请求项12之方法,其进一步包含: (e)产生一资料档案,其系格式化成用于控制一可程 式图案化阵列,以将该光罩图案赋予一光束。 19.如请求项12之方法,其进一步包含: (e)模拟将在一微影投影装置中产生于该光罩图案 之投影上的一空中影像; (f)比较该模拟空中影像与该元件图案;以及 (g)修改该光罩图案,以使得该修改光罩图案之一修 改空中影像更类似于该元件图案。 20.如请求项19之方法,其中步骤(g)包含: (g1)根据步骤(f)之结果产生另一校正核心;以及 (g2)采用一校正核心卷曲该光罩图案,以产生该修 改光罩图案。 21.如请求项19项之方法,其中步骤(e)至(g)可被重复 一或多次。 22.如请求项19项之方法,其中步骤(e)至(g)可被重复 直到步骤(f)之结果低于一预定限定値。 23.一种包含一电脑可使用媒体之电脑程式产品,该 电脑可使用媒体具有记录于其上之一电脑程式逻 辑,该电脑程式逻辑用于控制至少一个处理器且其 包含: 电脑程式码构件,其用于接收代表需要印刷之特征 的一元件图案;以及 电脑程式码构件,其用于产生一光罩图案,该光罩 图案包含紧靠具有一第二强度位准之一背景材料 的具有一第一强度位准之元件特征,以及具有一第 三强度位准的至少一个校正特征,该第三强度位准 介于该等第一与第二强度位准之间。 24.如请求项23之电脑程式产品,其中用于产生的电 脑程式码构件采用一校正核心进一步卷曲该元件 图案。 25.如请求项24之电脑程式产品,其中该校正核心系 二维的。 26.如请求项24之电脑程式产品,其中该校正核心系 一维的,以及其中用于产生的电脑程式码构件采用 一第二校正核心进一步卷曲该元件图案,该第二校 正核心系一维的并且垂直于该校正核心。 27.如请求项23之电脑程式产品,其进一步包含电脑 程式码构件,该电脑程式码构件用于提供指令以产 生一资料档案,其系格式化成用于控制一可程式图 案化阵列,以将该光罩图案赋予至一光束。 28.如请求项23之电脑程式产品,其进一步包含: 模拟电脑程式码构件,其用于模拟将在一微影投影 装置中产生于该光罩图案之投影上的一空中影像; 比较电脑程式码构件,其用于比较该模拟空中影像 与该元件图案;以及 修改电脑程式码构件,其用于修改该光罩图案,以 使得该修改光罩图案之一修改空中影像更类似于 该元件图案。 29.如请求项28之电脑程式产品,其中用于修改的该 电脑程式码构件包含: 产生电脑程式码构件,其用于根据该比较之结果产 生一校正核心;以及 卷曲电脑程式码构件,其用于该校正核心卷曲该光 罩图案,以产生该修改光罩图案。 30.一种微影装置,其包含: 一照明系统,其供应一辐射光束; 一可个别控制部件之图案化阵列,其空间调变该波 束; 一投影系统,其将该已图案化光束投射至该基板的 一目标部分之上;以及 一控制器,其控制该可个别控制部件之图案化阵列 ,以使得该等元件采用代表一投影图案之状态,该 投影图案包含一元件图案及一校正核心之一卷曲 。 31.如请求项30之装置,其中该控制器接收代表该元 件图案之资料并卷曲该元件图案及该校正核心。 32.如请求项31之装置,其中该控制器采用该校正核 心之一二维形式卷曲该元件图案。 33.如请求项31之装置,其中该控制器采用该校正核 心之一一维形式卷曲该元件图案,以产生一中间图 案,然后采用一第二之一维校正核心卷曲该中间图 案,以产生该图案化光束。 34.如请求项30之装置,其中该可个别控制部件之图 案化阵列采用具有三个或更多强度位准之一图案 调变该光束。 35.如请求项34之装置,其中该校正核心产生校正特 征具有在该元件图案之一高及一低强度位准中间 的至少一个强度位准。 36.一种投影微影装置,其具有可个别控制部件之图 案化阵列、一投影系统及一图案校正器,该可个别 控制部件之图案化阵列可设定为三个或更多状态 以调变一光束,该投影系统将该已调变之光束投射 至一基板上,以在该基板上印刷一图案,该图案系 藉由该可个别控制部件之图案化阵列所完成之该 调变而定义,该图案校正器接收一二位准元件图案 并采用一校正核心卷曲该元件图案,以产生具有该 元件图案之该等位准间的至少一个位准之强度位 准的校正特征。 图式简单说明: 图1描述依据本发明之一具体实施例的微影装置; 图2描述依据本发明之一具体实施例的方法所产生 之光罩图案的一部分; 图3、4及5描述依据本发明之各种具体实施例产生 光罩图案的方法;以及 图6显示依据本发明之一具体实施例的示范性电脑 系统。 |
