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发明名称 Method And Apparatus For An Improved Baffle Plate In A Plasma Processing System
摘要
申请公布号 KR100702296(B1) 申请公布日期 2007.03.30
申请号 KR20057005451 申请日期 2005.03.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;H01J37/32;H01L21/3065 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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