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发明名称 METHOD FOR ADJUSTING SIZE OF PHOTOMASK PATTERN
摘要
申请公布号 KR100702121(B1) 申请公布日期 2007.03.30
申请号 KR20040055306 申请日期 2004.07.15
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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