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发明名称
Shallow trench isolation method and method for fabricating semiconductor device using the same
摘要
申请公布号
KR100701998(B1)
申请公布日期
2007.03.30
申请号
KR20010022372
申请日期
2001.04.25
申请人
发明人
分类号
H01L21/762
主分类号
H01L21/762
代理机构
代理人
主权项
地址
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