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经营范围
发明名称
Method for manufacturing isolation pattern of word line in semiconductor device
摘要
申请公布号
KR100701684(B1)
申请公布日期
2007.03.29
申请号
KR20020081779
申请日期
2002.12.20
申请人
发明人
分类号
H01L27/10
主分类号
H01L27/10
代理机构
代理人
主权项
地址
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