| 摘要 |
Die Erfindung bezieht sich auf eine interferometrische Messvorrichtung zum Vermessen von Schichtstrukturen aus mehreren in Tiefenrichtung hintereinander liegenden Schichten mit einer diese automatisch in ihrer Tiefenrichtung (Z) abtastenden Abtastvorrichtung, mittels derer eine Interferenzebene (IE) realtiv zur Schichtstruktur verschiebbar ist, mit einem ein Weißlichtinterferometer (WL) oder ein wellenlängenscannendes Inerferometer (WLSI) aufweisenden Interferometerteil, dem für die Messung von einer Einstrahlungseinheit (LQ) eine Eingangsstrahlung zugeführt ist, welche mittels eines Strahlteilers (ST) aufgeteilt und zum einen Teil über einen Referenzstrahlengang als Referenzstrahl (RST) einem Referenzarm (RA) und zum anderen Teil über einen Objektstrahlengang als Objektstrahl (OST) einem beim Messen die Schichtstruktur aufweisenden Objektarm (OA) zugeführt ist, mit einem Bildaufnehmer (BA), der die aus dem Referenzarm (RA) und dem Objektarm (OA) zurückkommende interferierende Strahlung aufnimmt und in elektrische Signale umwandelt, sowie mit einer nachgeordneten Auswerteeinrichtung (AW) zum Bereitstellen der Messergebnisse. Eine zerstörungsfreie tomographische Vermessung insbesondere im Bereich der Grenzflächen der Schichtstruktur wird dadurch erreicht, dass die Abtastvorrichtung in der Weise ausgebildet ist, dass bei gleich bleibendem Referenzstrahlengang und Objektstrahlengang der zugehörige Abtastweg zumindest so groß ausgeführt ist wie der zu erwartende oder in ...
|
