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发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING SILICON WAFER USING ATMOSPHERE PLASMA TO REDUCE CLEANING PROCESS RELATIVE TO WET CLEANING
摘要
申请公布号 KR20070034824(A) 申请公布日期 2007.03.29
申请号 KR20050089400 申请日期 2005.09.26
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065;H01L21/205;H01L21/304 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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