| 发明名称 | 减反射硬掩模组合物 | ||
| 摘要 | 本发明包括新的含有有机物质的组合物，所述组合物可用作外涂的光致抗蚀剂的减反射层。本发明的组合物还通过所显示的对底涂层足够的等离子蚀刻选择性而被有效用作硬掩模层。本发明优选的组合物具有高的Si含量并含有不同树脂的掺混物。 | ||
| 申请公布号 | CN1936708A | 申请公布日期 | 2007.03.28 |
| 申请号 | CN200610129020.4 | 申请日期 | 2006.08.29 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 发明人 | D·A·格伦拜克;A·M·夸克;C·Q·特鲁翁;M·K·加拉赫;A·赞皮尼 |
| 分类号 | G03F7/09(2006.01) | 主分类号 | G03F7/09(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 沙永生 |
| 主权项 | 1.一种经涂覆的基材，所述基材包括：(a)有机组合物，所述有机组合物含有(i)一种或多种Si树脂；(ii)与所述一种或多种Si树脂不同的一种或多种树脂；其中，以所述组合物的总固体重量计，所述有机组合物的Si含量至少为约20重量％；(b)在减反射组合物层上的光致抗蚀剂层。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||