蒽羧酸和菲羧酸的甲硅烷基烷基酯

摘要

本发明涉及甲硅烷基烷基酯，特别是蒽和菲羧酸的甲硅烷基烷基酯，它们的制备方法，含有该甲硅烷基烷基酯的组合物和聚硅氧烷组合物，该组合物特别可用来在半导体工业中制备光刻技术中使用的防反射层。

主权项

1.制备式(I)的甲硅烷基烷基酯的方法其中R₁、R₂和R₃相同或不同，代表烷基、芳基和杂芳基，R₄和R₅相同或不同，代表氢、卤素、烷基、芳基和杂芳基，n是从1到10的整数，R₆是一个取代基，选自：卤素、烷基、芳基，杂芳基，羟基，烷氧基，芳基醚，取代和未取代的氨基，羧基，羧酸酯基，羧酸酰胺基，磺酸基，磺酸酯基，磺酰基，硫基，硫醚和硝基，m是从0到4的整数，T、X、Y和Z各代表碳，在键T-X、X-Y或Y-Z之一上稠合着一个苯并基团，该基团被m个R₆取代或是未被取代，从而形成一个三核芳环体系，其中甲硅烷基烷基酯基是取代在该三核芳香环系的中间环上，在所述方法中，使式(II)的羧酸盐与式(III)的有机硅化合物反应其中k是从1到4的整数，M是一种金属，其中A代表离核的离去基团。