| 发明名称 | 一种射频系统的控制方法及其射频匹配器 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种射频系统的控制方法及其射频匹配器。本发明提供的射频系统的控制方法，首先通过自动或者手动匹配的方式测量每个工艺步骤中匹配器的匹配点对应的电容值；为每一工艺步骤指定匹配器的电容取值，并且设置为固定模式，在同一工艺步骤中维持不变，在不同工艺步骤切换时改变；使用射频电源的负载功率稳定模式维持负载功率不变，使用射频电源的扫频调谐功能，改变射频电源的输出频率，减少负载的反射功率。本发明的简单匹配的匹配器，由带驱动马达的可调匹配电容及A/D转换模块组成。使用本发明的方法可以缩短匹配时间，并只需要使用本发明提供的简单定制的匹配器，从而降低系统成本。 | ||
| 申请公布号 | CN1937882A | 申请公布日期 | 2007.03.28 |
| 申请号 | CN200510126449.3 | 申请日期 | 2005.12.09 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 申浩南 |
| 分类号 | H05H1/46(2006.01);H05H1/30(2006.01);H01L21/00(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L21/311(2006.01);H01L21/3213(2006.01);C23F4/00(2006.01) | 主分类号 | H05H1/46(2006.01) |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王常风 |
| 主权项 | 1、一种半导体制造设备中射频系统的控制方法，包括以下步骤：A.首先测量每个工艺步骤中匹配器的匹配点对应的电容值；B.根据测量的匹配点对应的电容值为每一工艺步骤指定匹配器的电容取值，并且设置为固定模式，即在同一工艺步骤中维持不变，在不同工艺步骤切换时改变：C.在工艺切换时，使用射频电源的负载功率稳定模式维持负载功率不变，并使用射频电源的扫频调谐功能，改变射频电源的输出频率，以减少负载的反射功率。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号 | ||