发明名称 成膜装置及成膜方法
摘要 以提供成膜速度快,使均匀成膜成为可能,能够节省原料的成膜装置和成膜方法为目的,使蒸发的成膜材料通过输运气体的气体流动到达基板表面,可以通过气体的气体流动控制成膜条件,能够将均匀的膜堆积在大面积的基板上。即、通过将气化的原料引导向基板而提高成膜速度,可以均匀成膜。
申请公布号 CN1938447A 申请公布日期 2007.03.28
申请号 CN200580009990.4 申请日期 2005.03.29
申请人 大见忠弘;东京毅力科创株式会社 发明人 大见忠弘;松冈孝明
分类号 C23C14/24(2006.01);C23C14/12(2006.01);C23C16/448(2006.01);H05B33/10(2006.01);H05B33/28(2006.01) 主分类号 C23C14/24(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李贵亮
主权项 1.一种成膜装置,其特征在于,包括:减压容器;被直接或间接地连接在该减压容器上的减压机构;位于前述减压容器内或者减压容器外直接或间接地连接在前述减压容器上的、供给成膜材料或者成膜材料前体的成膜材料供给装置,即、至少具有使前述成膜材料或者成膜材料前体气化的气化机构的成膜材料供给装置;被设置在前述减压容器内、设置使成膜材料堆积的基板的基板设置部,并且,前述气化机构中,与前述成膜材料或者前述成膜材料前体接触的部分由放出气体少的材料或者催化效果少的材料构成。
地址 日本国宫城县