发明名称 基板用定位工作台、基板用定位设备及基板的定位方法
摘要 一种基板用定位工作台、基板用定位设备及基板的定位方法。该基板用定位工作台具有:载置基板的载置台;自由滚珠轴承,其设置在所述载置台外周部的多处位置,通过对从所述载置台的上方下降而载置于所述载置台上的基板的外周部进行引导,使所述基板定位在所述载置台上设定的基板定位区域内。所述自由滚珠轴承由滚珠支承体和自由旋转地被该滚珠支承体支承的滚珠构成,而且,所述滚珠的中心配置在所述载置台支承所述基板的支承面的延长上,或者,设置在所述载置台上载置基板的板厚度尺寸的范围内比所述支承面更上方的位置。
申请公布号 CN1938843A 申请公布日期 2007.03.28
申请号 CN200580009849.4 申请日期 2005.04.04
申请人 株式会社井口机工制作所 发明人 井口薰;内田卓朗;西之宫秀树
分类号 H01L21/68(2006.01) 主分类号 H01L21/68(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波
主权项 1.一种基板用定位工作台,其具有:载置基板的载置台;自由滚珠轴承,其设置在所述载置台外周部的多处位置,通过对从所述载置台的上方下降而载置于所述载置台上的基板的外周部进行引导,使所述基板定位在所述载置台上设定的基板定位区域内,其特征在于,所述自由滚珠轴承由滚珠支承体和自由旋转地支承于该滚珠支承体上的滚珠构成,所述滚珠的中心配置在所述载置台支承所述基板的支承面的延长上,或者,设置在所述载置台上载置的基板的板厚度尺寸的范围内比所述支承面靠上方的位置,可以通过所述滚珠的旋转将与所述滚珠从所述滚珠支承体突出的部分抵接的基板引导到由各个自由滚珠轴承的滚珠包围的内侧的所述基板定位区域。
地址 日本国东京都
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