发明名称 |
用于铁电薄膜的金属有机化学气相沉积和退火处理 |
摘要 |
一种制造c轴定向的铁电薄膜的方法,其包括:准备一衬底;通过金属有机化学气相沉积,其包括使用一前体溶液,沉积一铁电材料层,所述前体溶液在汽化器温度约为140-200℃具有约为0.1M/L的铁电材料浓度;以及将所述衬底和所述铁电材料层在约500-560℃温度下退火处理约30-120分钟。 |
申请公布号 |
CN1307322C |
申请公布日期 |
2007.03.28 |
申请号 |
CN02128590.X |
申请日期 |
2002.08.13 |
申请人 |
夏普公司 |
发明人 |
李廷凯;潘威;许胜籐 |
分类号 |
C23C16/18(2006.01);C23C16/40(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/18(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
崔幼平;郑建晖 |
主权项 |
1.一种制造c轴定向的铁电薄膜的方法,其包括:准备一衬底;通过金属有机化学气相沉积(MOCVD),其包括使用一前体溶液,沉积一铁电材料层,所述前体溶液在140-200℃的汽化器温度下具有0.1M/L的铁电材料浓度;以及将所述衬底和所述铁电材料层在500-560℃温度下退火处理30-120分钟,以生产出具有结晶粒度为0.8μm的铁电薄膜;其中,所述沉积过程包括在300-450℃的沉积温度下沉积所述铁电材料层。 |
地址 |
日本大阪市 |