发明名称 InP单晶锭退火处理方法
摘要 一种InP单晶锭退火处理方法,包括如下步骤:步骤1:将生长出的InP单晶表面用去离子水清洗,去掉残留的氧化硼;步骤2:然后用有机溶剂擦洗,用去离子水冲洗后晾干待用;步骤3:准备石英管和封泡,用王水浸泡后去离子水冲洗干净,烘干待用;步骤4:将晶体直接放入石英管内,同时放入红磷;步骤5:然后放封泡后用机械泵抽真空,用氢氧焰烧结封口;步骤6:将装有晶体的石英管放入退火炉内退火,完成InP单晶锭退火处理。本发明可以解决生长出的化合物半导体单晶InP中存在着很高的残留热应力,极容易造成晶体在切割过程中开裂以及晶片在研磨、抛光、清洗和使用过程中碎裂,提高晶体的质量。
申请公布号 CN1936119A 申请公布日期 2007.03.28
申请号 CN200510086482.8 申请日期 2005.09.22
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 赵友文;段满龙
分类号 C30B33/02(2006.01);C30B29/40(2006.01) 主分类号 C30B33/02(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汤保平
主权项 1、一种InP单晶锭退火处理方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:将生长出的InP单晶表面用去离子水清洗,去掉残留的氧化硼;步骤2:然后用有机溶剂擦洗,用去离子水冲洗后晾干待用;步骤3:准备石英管和封泡,用王水浸泡后去离子水冲洗干净,烘干待用;步骤4:将晶体直接放入石英管内,同时放入红磷;步骤5:然后放封泡后用机械泵抽真空,用氢氧焰烧结封口;步骤6:将装有晶体的石英管放入退火炉内退火,完成InP单晶锭退火处理。
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