发明名称 |
InP单晶锭退火处理方法 |
摘要 |
一种InP单晶锭退火处理方法,包括如下步骤:步骤1:将生长出的InP单晶表面用去离子水清洗,去掉残留的氧化硼;步骤2:然后用有机溶剂擦洗,用去离子水冲洗后晾干待用;步骤3:准备石英管和封泡,用王水浸泡后去离子水冲洗干净,烘干待用;步骤4:将晶体直接放入石英管内,同时放入红磷;步骤5:然后放封泡后用机械泵抽真空,用氢氧焰烧结封口;步骤6:将装有晶体的石英管放入退火炉内退火,完成InP单晶锭退火处理。本发明可以解决生长出的化合物半导体单晶InP中存在着很高的残留热应力,极容易造成晶体在切割过程中开裂以及晶片在研磨、抛光、清洗和使用过程中碎裂,提高晶体的质量。 |
申请公布号 |
CN1936119A |
申请公布日期 |
2007.03.28 |
申请号 |
CN200510086482.8 |
申请日期 |
2005.09.22 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
赵友文;段满龙 |
分类号 |
C30B33/02(2006.01);C30B29/40(2006.01) |
主分类号 |
C30B33/02(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汤保平 |
主权项 |
1、一种InP单晶锭退火处理方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:将生长出的InP单晶表面用去离子水清洗,去掉残留的氧化硼;步骤2:然后用有机溶剂擦洗,用去离子水冲洗后晾干待用;步骤3:准备石英管和封泡,用王水浸泡后去离子水冲洗干净,烘干待用;步骤4:将晶体直接放入石英管内,同时放入红磷;步骤5:然后放封泡后用机械泵抽真空,用氢氧焰烧结封口;步骤6:将装有晶体的石英管放入退火炉内退火,完成InP单晶锭退火处理。 |
地址 |
100083北京市海淀区清华东路甲35号 |