发明名称 CMOS image device with local impurity region and method of manufacturing the same
摘要
申请公布号 KR100699849(B1) 申请公布日期 2007.03.27
申请号 KR20050053555 申请日期 2005.06.21
申请人 发明人
分类号 H01L27/146 主分类号 H01L27/146
代理机构 代理人
主权项
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