Reflection device for EUVL lithography, fabricating method of the same and, mask, projection optics system and apparatus of EUVL using the same,申请号KR20050071080-传众专利搜索

发明名称	Reflection device for EUVL lithography, fabricating method of the same and, mask, projection optics system and apparatus of EUVL using the same
摘要
申请公布号	KR100699858(B1)	申请公布日期	2007.03.27
申请号	KR20050071080	申请日期	2005.08.03
申请人		发明人
分类号	H01L21/027;C23C14/06;G02B5/08;G03F1/24;G03F1/68;G21K1/06	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
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