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发明名称 MANUFACTURE METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING SILICON-CONTAINING INSULATING FILM
摘要
申请公布号 KR100698998(B1) 申请公布日期 2007.03.26
申请号 KR20020010870 申请日期 2002.02.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/28;H01L21/3065;H01L21/302;H01L21/311;H01L21/768 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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