| 主权项 |
1.一种光电装置之制造方法,系于基体上具有第1电 极、第2电极、与被挟持于第1电极与第2电极之间 的光电层之光电装置之制造方法,其特征为:具有 在前述基体上形成前述第1电极之工程; 在前述第1电极上形成前述光电层之工程; 在前述光电层上形成前述第2电极之工程; 形成覆盖前述第2电极的发光材料保护层之工程; 及 形成覆盖前述发光材料保护层的电极保护层之工 程, 前述发光材料保护层是藉由真空蒸镀法所形成。 2.一种光电装置之制造方法,系于基体上具有第1电 极、第2电极、与被挟持于第1电极与第2电极之间 的光电层之光电装置之制造方法,其特征为;具有 在前述基体上形成前述第1电极之工程; 在前述第1电极上形成前述光电层之工程; 形成覆盖前述光电层的发光材料保护层之工程; 形成覆盖前述发光材料保护层的前述第2电极之工 程;及 形成覆盖前述第2电极的电极保护层之工程, 前述发光材料保护层是藉由真空蒸镀法所形成。 3.如申请专利范围第1或2项之光电装置之制造方法 ,其中 进而具有形成覆盖前述第2电极、前述电极保护层 与前述发光材料保护层之气体障蔽层(gas barrier layer)之工程。 4.如申请专利范围第1或2项之光电装置之制造方法 ,其中 前述电极保护层是藉由电浆成膜法所形成。 5.如申请专利范围第1或2项之光电装置之制造方法 ,其中 前述第2电极是藉由真空蒸镀法所形成。 6.如申请专利范围第1或2项之光电装置之制造方法 ,其中 前述电极保护层,系由导电性且具有透明性之金属 氧化物所构成。 7.如申请专利范围第1或2项之光电装置之制造方法 ,其中 前述发光材料保护层,系由金属氟化物所构成。 8.如申请专利范围第7项之光电装置之制造方法,其 中 前述金属氟化物系氟化锂。 图式简单说明: |
