| 主权项 |
1.一种制造系统,包含: 一装载室; 与装载室连接的传送室; 与传送室连接的多个沉积室;以及 与每个沉积室连接的安装室, 其中,每个沉积室和将沉积室内真空抽气的第一真 空抽气室连接在一起; 其中每个沉积室包含: 对准掩模和基底的位置的对准机构; 基底保持机构; 移动蒸发源支架的移动机构,其中该蒸发源支架包 括至少一个其内密封有蒸发材料的容器; 容器加热机构;和 提供在容器上的闸门; 其中,该安装室和将安装室内真空抽气的第二真空 抽气室连接在一起;和 其中安装室包含: 容器加热机构;和 传送容器到沉积室的蒸发源支架的传送机构。 2.如申请专利范围第1项之制造系统,其中多个平板 加热器保持间距地重叠安装在传送室;和 传送室与可以真空加热多个基底的处理室连接。 3.如申请专利范围第1项之制造系统,其中该移动蒸 发源支架的移动机构具有以固定节距向X轴移动蒸 发源支架,和以固定节距向Y轴移动蒸发源支架的 功能。 4.如申请专利范围第1项之制造系统,其中该容器的 数量多于六个。 5.如申请专利范围第1项之制造系统,其中在蒸发源 支架上提供有调整倾斜程度的螺钉。 6.如申请专利范围第1项之制造系统,其中该装载室 为一输送室。 7.一种制造系统,包含: 一装载室; 与装载室连接的传送室; 与传送室连接的多个沉积室;以及 与每个沉积室连接的安装室, 其中,每个沉积室和将沉积室内真空抽气的第一真 空抽气室连接在一起; 其中每个沉积室包含: 对准掩模和基底的位置的对准机构; 基底保持机构; 移动蒸发源支架的移动机构,其中该蒸发源支架包 括至少一个其内密封有蒸发材料的容器; 容器加热机构;和 悬浮容器于蒸发源支架之上以便使其冷却的冷却 机构; 其中,该安装室和将安装室内真空抽气的第二真空 抽气室连接在一起; 其中安装室包含: 容器加热机构;和 传送容器到沉积室的蒸发源支架的传送机构。 8.如申请专利范围第7项之制造系统,其中多个平板 加热器保持间距地重叠安装在传送室;和其中传送 室与可以真空加热多个基底的处理室连接。 9.如申请专利范围第7项之制造系统,其中该移动蒸 发源支架的移动机构具有以固定节距向X轴移动蒸 发源支架,和以固定节距向Y轴移动蒸发源支架的 功能。 10.如申请专利范围第7项之制造系统,其中该容器 的数量多于六个。 11.如申请专利范围第7项之制造系统,其中在蒸发 源支架上提供有调整倾斜程度的螺钉。 12.如申请专利范围第7项之制造系统,其中该装载 室为一输送室。 13.一种发光装置,包含一发光元件,该发光元件在 有绝缘表面的基底上包括阴极,和阴极接触的含有 有机化合物的叠层,以及和含有有机化合物的叠层 接触的阳极, 其中含有有机化合物的叠层中,至少有两层以上的 端部互相齐平;和 其中该发光元件被一叠层覆盖,该叠层包括第一无 机绝缘膜、有吸湿性和透明性的膜、以及第二无 机绝缘膜。 14.如申请专利范围第13项之发光装置,其中有吸湿 性和透明性的膜比第一无机绝缘膜或第二无机绝 缘膜的应力小。 15.如申请专利范围第13项之发光装置,其中第一无 机绝缘膜或第二无机绝缘膜是氮化矽膜、氧化矽 膜、氮氧化矽膜、DLC膜、CN膜、或这些膜的叠层 。 16.如申请专利范围第13项之发光装置,其中第一无 机绝缘膜或第二无机绝缘膜是使用用矽制作的靶 藉由高频率溅射法形成的氮化矽膜。 17.如申请专利范围第13项之发光装置,其中第一基 底上提供有发光元件以及和发光元件连接的TFT。 18.如申请专利范围第13项之发光装置,其中该有吸 湿性和透明性的膜是藉由蒸气沉积获得的材料膜 。 19.如申请专利范围第13项之发光装置,其中有吸湿 性和透明性的膜系由与夹在阴极和阳极之间的叠 层中的至少一层采用相同的材料而形成。 20.如申请专利范围第13项之发光装置,其中该发光 装置选自由视频相机、数位相机、显示器、汽车 导航系统、个人电脑以及携带型资讯终端所组成 之群之一。 21.一种发光装置,包括一发光元件,该发光元件在 有绝缘表面的基底上包括阴极、和阴极连接的含 有有机化合物的叠层、以及和含有有机化合物的 叠层连接的阳极; 其中含有有机化合物的叠层中,提供的叠层的上层 能够覆盖叠层的底层的端部;和 其中该发光元件被一叠层覆盖,该叠层包括第一无 机绝缘膜、有吸湿性和透明性的膜、以及第二无 机绝缘膜。 22.如申请专利范围第21项之发光装置,其中有吸湿 性和透明性的膜比第一无机绝缘膜或第二无机绝 缘膜的应力小。 23.如申请专利范围第21项之发光装置,其中第一无 机绝缘膜或第二无机绝缘膜是氮化矽膜、氧化矽 膜、氮氧化矽膜、DLC膜、CN膜、或这些膜的叠层 。 24.如申请专利范围第21项之发光装置,其中第一无 机绝缘膜或第二无机绝缘膜是使用用矽制作的靶 藉由高频率溅射法形成的氮化矽膜。 25.如申请专利范围第21项之发光装置,其中第一基 底上提供有发光元件以及和发光元件连接的TFT。 26.如申请专利范围第21项之发光装置,其中该有吸 湿性和透明性的膜是藉由蒸气沉积获得的材料膜 。 27.如申请专利范围第21项之发光装置,其中有吸湿 性和透明性的膜与夹在阴极和阳极之间的叠层中 的至少一层采用相同的材料而形成。 28.如申请专利范围第21项之发光装置,其中发光装 置选自由视频相机、数位相机、显示器、汽车导 航系统、个人电脑以及携带型资讯终端所组成之 群之一。 29.一种制造系统,包含: 一装载室; 与装载室连接的传送室; 与传送室连接的多个沉积室;以及 与每个沉积室连接的安装室, 其中,每个沉积室和将沉积室内真空抽气的第一真 空抽气室连接在一起; 其中每个沉积室包含: 对准掩模和基底的位置的CCD相机和制动器; 一框架; 移动蒸发源支架的台,其中该台包括至少一个其内 密封有蒸发材料的容器; 加热容器的加热器;和 提供在容器上的闸门; 其中,该安装室和将安装室内真空抽气的第二真空 抽气室连接在一起; 其中安装室包含:加热容器的加热器;和传送容器 到沉积室的蒸发源支架的手臂。 30.如申请专利范围第29项之制造系统,其中该容器 的数量多于六个。 31.如申请专利范围第29项之制造系统,其中在蒸发 源支架上提供有调整倾斜程度的螺钉。 32.如申请专利范围第29项之制造系统,其中该装载 室为一输送室。 33.一种制造系统,包含: 一装载室; 与装载室连接的传送室; 与传送室连接的多个沉积室;和 与多个沉积室连接的安装室, 其中,该多个沉积室和将沉积室内真空抽气的第一 真空抽气室连接在一起; 其中多个沉积室包含: 对准掩模和基底的位置的CCD照相机和制动器; 一框架; 移动蒸发源支架的台,其中该蒸发源支架包括至少 一个其内密封有蒸发材料的容器; 加热容器的加热器;和 悬浮容器于蒸发源支架之上以便使其冷却的提升 杆;和 其中,该安装室和将安装室内真空抽气的第二真空 抽气室连接在一起; 其中安装室包含:加热容器的加热器;和传送容器 到沉积室的蒸发源支架的手臂。 34.如申请专利范围第33项之制造系统,其中该容器 的数量多于六个。 35.如申请专利范围第33项之制造系统,其中在蒸发 源支架上提供有调整倾斜程度的螺钉。 36.如申请专利范围第33项之制造系统,其中该装载 室为一输送室。 37.一种形成一层的方法,包含以下步骤: 在安装室安装含有有机化合物的容器; 在安装室内实施真空抽气; 在安装室将容器加热至温度T; 在安装室与沉积室完成第一真空度; 打开在安装室与沉积室间之闸门; 传送加热过的容器到预先加热至温度T的蒸发支架 ,该蒸发支架系在沉积室中; 关闭在安装室与沉积室间之闸门; 将基底安排在沉积室; 藉由保持容器的温度在温度T并使沉积室内的第二 真空度高于第一真空度,对基底实施蒸气沉积。 38.如申请专利范围第37项所述之方法,其中该容器 包含抗热金属、烧结氮化硼、氮化硼与氮化铝之 烧结化合物、石英与石墨的至少之一。 39.如申请专利范围第37项所述之方法,其中该蒸发 支架包含一倾斜调整螺钉。 40.如申请专利范围第37项所述之方法,其中该蒸发 支架具有多数容器。 41.一种形成一层的方法,该方法包含: 在安装室安装含有有机化合物的容器; 将该安装室真空抽气; 在安装室将容器加热至温度T; 在安装室与沉积室内完成第一真空度; 打开在安装室与沉积室间之闸门; 传送加热过的容器到预先加热至温度T的蒸发支架 ,该蒸发支架系在沉积室内; 关闭安装室与沉积室间之闸门; 将基底安置在沉积室内;及 在保持容器于温度T的同时,藉由使沉积室的第二 真空度大于第一真空度,而对该基底执行蒸气沉积 , 其中在执行蒸气沉积的步骤中,该蒸发支架系以固 定节距移动于X方向并以固定节距移动于Y方向。 42.如申请专利范围第41项所述之方法,其中该容器 包含抗热金属、烧结氮化硼、氮化硼与氮化铝的 烧结化合物、石英与石墨之至少一个。 43.如申请专利范围第41项所述之方法,其中该蒸发 支架包含一倾斜调整螺钉。 44.如申请专利范围第41项所述之方法,其中该蒸发 支架具有多数容器。 45.一种形成一层的方法,该方法包含: 在安装室安装包含有机化合物的容器; 将该安装室真空抽气; 在安装室将容器加热至温度T; 在安装室与沉积室内完成第一真空度; 打开在安装室与沉积室间之闸门; 传送加热过的容器到预先加热至温度T的蒸发支架 ,该蒸发支架系在沉积室内; 关闭安装室与沉积室间之闸门; 将基底安置在沉积室内;及 在保持容器于温度T的同时,藉由使沉积室的第二 真空度大于第一真空度,而对该基底执行蒸气沉积 , 其中该蒸发支架系在执行蒸气沉积的步骤被旋转 。 46.如申请专利范围第45项所述之方法,其中该容器 包含抗热金属、烧结氮化硼、氮化硼与氮化铝的 烧结化合物、石英与石墨之至少一个。 47.如申请专利范围第45项所述之方法,其中该蒸发 支架包含一倾斜调整螺钉。 48.如申请专利范围第45项所述之方法,其中该蒸发 支架具有多数容器。 图式简单说明: 图1A和1B是显示实施模式1的视图; 图2A和2B是显示实施模式1的视图; 图3A和3B是显示实施模式2的视图; 图4A和4B是显示在安装室中载送坩埚的图; 图5A和5B是显示在安装室中载送坩埚到蒸发源支架 的图; 图6A和6B是显示实施模式3的视图; 图7是显示根据本发明的实施例1的制造系统的图; 图8是显示根据本发明的实施例1的制造系统的图; 图9A和9B显示根据实施例2的制造系统的顺序的一 个实例; 图10A到10C是显示根据实施模式4的发光面积的横截 面图; 图11A和11B是显示根据实施模式4的横截面的TEM照片 ; 图12A和12B是显示根据实施模式4的发光面积的横截 面图; 图13A和13B是显示根据实施例3的制造系统的图; 图14A和14B是根据实施例4的元件结构的图; 图15A和15B是显示根据实施例5的发光装置的图; 图16A和16B是显示根据实施例5的发光装置的图; 图17A到17E分别表示实施例6所指电子器具的实例; 图18A到18C分别表示实施例6所指电子器具的实例; 图19A和19B是显示根据实施例7的模组; 图20是显示根据实施例7的方块图; 图21显示习知的发光装置。 |
