发明名称 划线期间之保护层
摘要 一种方法,其包含形成化学可溶性涂层于电路基板表面上之多个露出的接点;沿着划线区域来划线基板的表面;以及在划线之后,去除涂层的部分。一种方法,其包含形成电路结构包含表面上之多个露出的接点,而露出接点的位置系由多个划线街道来予以界定的;形成涂层包含露出接点上的化学可溶性涂层;沿着划线区域来划线基板的表面;以及在划线之后,去除此涂层。一种方法,其包含以化学可溶性材料来涂敷包含多个露出接点之电路基板的表面;沿着划线区域来划线基板的表面;去除此涂层;以及锯开划线区域中的基板。
申请公布号 TWI277374 申请公布日期 2007.03.21
申请号 TW093129710 申请日期 2004.09.30
申请人 英特尔股份有限公司 发明人 苏杰特 沙伦;汤玛士 迪波尼斯
分类号 H05K1/09(2006.01) 主分类号 H05K1/09(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种形成电子装置之方法,包含: 形成化学可溶性涂层于电路基板表面上之多个露 出的接点; 沿着划线区域来划线基板的表面;以及 在划线之后,去除涂层的部分。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中,多个接点之 部分的各者包含使突出部突出于表面上,且形成涂 层包含形成该涂层到一大于多个接点之部分的表 面突出之距离的厚度。 3.如申请专利范围第2项之方法,其中,涂层具有5到 35微米的厚度。 4.如申请专利范围第2项之方法,另包含沿着划线区 域来锯开基板。 5.如申请专利范围第4项之方法,其中,锯开及去除 涂层的部分被同时完成。 6.如申请专利范围第1项之方法,其中,去除涂层的 部分包含使多个接点暴露出。 7.如申请专利范围第6项之方法,其中,去除涂层的 部分包含去除整个部分。 8.如申请专利范围第1项之方法,其中,化学可溶性 涂层的材料系选自包含甲基纤维素、聚乙烯醇、 及树脂焊剂的群中。 9.一种形成电子装置之方法,包含: 形成电路结构包含表面上之多个露出的接点,而露 出接点的位置系由多个划线街道来予以界定的; 形成涂层包含露出接点上的化学可溶性涂层; 沿着划线区域来划线基板的表面;以及 在划线之后,去除该涂层。 10.如申请专利范围第9项之方法,另包含,在划线之 后,沿着划线街道来锯开基板。 11.如申请专利范围第10项之方法,其中,锯开及去除 涂层被同时完成。 12.如申请专利范围第10项之方法,其中,去除涂层包 含去除整个涂层。 13.如申请专利范围第10项之方法,其中,涂层的材料 系选自包含甲基纤维素、聚乙烯醇、及树脂焊剂 的群中。 14.一种形成电子装置之方法,包含: 以化学可溶性材料来涂敷包含多个露出接点之电 路基板的表面; 沿着划线区域来划线基板的表面; 去除该涂层;以及 锯开划线区域中的基板。 15.如申请专利范围第14项之方法,其中,锯开及去除 涂层被同时完成。 16.如申请专利范围第15项之方法,其中,涂层的材料 系选自包含甲基纤维素、聚乙烯醇、及树脂焊剂 的群中。 图式简单说明: 图1系显示一晶圆之具有许多分开的电路结构形成 于其上且被划线街道所隔开之部分的顶部侧视图 。 图2显示图1之经过直线A-A'之结构的剖面侧视图。 图3A显示依据一实施例,在将化学可溶性涂层导入 于结构的表面上后之图2的结构。 图3B显示依据另一实施例,在将化学可溶性涂层导 入于结构的表面上后之图2的结构。 图4显示图3A之结构及划线程序。 图5显示在湿式锯开程序期间之图4的结构。 图6显示在湿式锯开程序后之图5的结构。 图7显示连接至封装组件之晶粒或晶片的侧视图。
地址 美国