| 主权项 |
1.一种连续地输送反应成分到液态反应系统中之 反应控制方法,其包括使反应系统中反应生成物的 一部份连续地受到一个分离步骤之作用,并且使已 经在分离步骤中分离的成分被循环到该反应系统, 其中该反应系统系为放热反应系统,该反应系统之 温度是经由分离步骤之分离成分之循环流量速率( rate),而控制或调节循环分离成分的热量而被控制, 以及该反应系统之温度系依据下列步骤予以控制: (1)侦测从该分离步骤中循环分离液体成分的流量 速率和温度; (2)依据该侦测步骤(1)所侦测的流量速率和温度以 计算该分离步骤中循环分离液体成分的热量资料; 以及 (3)依据第二步骤中该循环分离液体成分的热量资 料与作为维持在该反应系统之温度在预定温度値 之参考热量资料间之误差,藉由控制循环分离液体 成分温度之方法以调节回流到反应系统之循环分 离液体成分的热量。 2.如申请专利范围第1项之反应控制方法,其中含有 反应之有效成分之一个分离成分被循环到反应系 统。 3.如申请专利范围第1项之反应控制方法,其中反应 系统温度被控制在系统之预定温度上,此系统中之 分离成分从分离步骤循环到反应系统之循环流量 速率产生变动, 该方法包括,侦测循环之分离成分的流量速率及温 度,并且根据侦测之流量速率及温度而控制循环分 离成分之温度。 4.如申请专利范围第1项之反应控制方法,其中反应 系统为不具有热移除单元之放热反应系统,并且反 应系统之温度是由温度比反应系统之温度低之分 离成分的温度及流量速率所控制。 5.如申请专利范围第1项之反应控制方法,其中: 醇类及一氧化碳被输送到含有纵基化作用触媒系 统之液态反应系统; 含有反应所生成之羧酸的反应混合物之一部份,从 维持在实质恒定之液体位准下之反应系统中被抽 出,并且被输送到瞬间蒸馏塔;以及 高沸点成分被循环到反应系统,该高沸点成分包含 有羰基化作用触媒系统,并且已经从含有羰基化作 用产物之低沸点成分被瞬间蒸馏所分离; 其中,循环之高沸点成分之流量速率及温度被侦测 ,并且循环之高沸点成分之温度是根据已侦测之流 量速率及温度而被控制,以控制该反应系统的温度 在预定温度上,并且抑制该反应系统之气态的压力 变动。 6.如申请专利范围第5项之反应控制方法,其中已被 瞬间蒸馏所分离之低沸点成分进一步受到或输送 到精炼系统作用,以分离成第2低沸点成分,含有羧 酸之成分,以及第2高沸点成分,并且已被精炼系统 所分离之第2低沸点成分被循环到反应系统。 7.如申请专利范围第5项之反应控制方法,其中液态 反应系统之中,甲醇及一氧化碳在羰基化作用触媒 系统之中反应,以产生醋酸或其衍生物。 8.如申请专利范围第5项之反应控制方法,其中高沸 点成分含有羰基化作用触媒系统,其包括有铑触媒 及辅触媒,并且低沸点成分包含有羧酸,羧酸酯及 卤化链烷。 9.如申请专利范围第6项之反应控制方法,其中第2 低沸点成分包含有卤化链烷。 10.如申请专利范围第1项之反应控制方法,其中反 应系统温度被控制在相对于参考温度为0.5℃之范 围内。 11.如申请专利范围第10项之反应控制方法,其中参 考温度为150℃到220℃。 12.一种控制稳定羰基化反应之装置,其包括: 液态放热反应系统,反应成分以预定速率而连续地 被输送到其中; 分离单元,从反应系统之反应生成物之一部份连续 地被输送到其中; 温度控制单元,用来控制已被分离单元所分离之分 离成分的温度; 循环管线,用来使温度已由温度控制单元所调整之 分离成分被循环到反应系统,其特征为;该控制装 置包括: 流量速率感测器,用来侦测在该循环管线中之分离 成分的循环流量速率; 温度感测器,用来侦测在该循环管线中之分离成分 的温度; 控制单元,由该温度控制单元根据该流量速率感测 器及温度感测器之侦测资料而控制循环分离成分 之热量,其中该控制单元包括 第一计算单元,系依据从该流量速率感测器以及温 度感测器所侦测之资料,而计算循环分离成分的热 量资料; 比较单元,系比较所计算而得之热量资料与作为维 持在该反应系统之温度在预定温度値之参考热量 资料; 第二计算单元,当热量资料偏离该参考热量资料时 ,依据由该比较单元所计算而得之热量资料与参考 热量资料间之偏离误差,作为第二计算单元计算温 度有关的控制量;以及 驱动单元,其系依据由第2计算单元所计算之温度 有关的控制量,而控制循环分离成分的温度。 13.如申请专利范围第12项之装置,更包括有: 精炼单元,用来将已被分离单元所分离之低沸点成 分分离成第2低沸点成分,含有羧酸之成分,以及第2 高沸点成分;以及 第2循环管线,用来使已被精炼系统分离之第2低沸 点成分循环到反应系统, 其中,液态反应系统系为没有冷却单元之反应系统 ,并且为放热反应系统,并且控制单元为由温度控 制单元而用来控制温度比反应系统之温度低之分 离成分之热量,以由循环之分离成分的循环流量速 率而控制或调节反应温度。 图式简单说明: 第1图是显示用来解释本发明之反应控制方法及控 制装置的程序流程图; 第2图是用来解释第1图之控制装置的方块图。 |
