| 主权项 |
1.一种适用于一玻璃基板之光阻清除设备,包括: 一反应室,具有一入口、一出口及一吸气口; 一传送机构,设置于反应室中,用于带动玻璃基板 由入口进入,经反应室再由出口送出; 复数个风刀,设置于反应室内侧入口及出口上方及 下方; 一抽气帮浦,与反应室之吸气口及风刀连通,用于 将反应室内之空气抽出,再经风刀送入反应室中, 吹向传送中的玻璃基板。 2.如申请专利范围第1项所述之光阻清除设备,其更 包括复数个喷洒头,设置于反应室入口与出口之间 ,用于将溶剂喷洒于玻璃基板表面。 3.如申请专利范围第1项所述之光阻清除设备,其中 吸气口设置于反应室上方,较接近出口之一侧。 4.如申请专利范围第1项所述之光阻清除设备,其更 包括一排气单元,与反应室连通,用于将反应室内 之空气排出。 5.如申请专利范围第1项所述之光阻清除设备,其更 包括一供气单元,与反应室连通,用于将空气送入 反应室中。 6.一种适用于玻璃基板之光阻清除设备,包括: 复数个反应室,分别具有一入口、一出口及一吸气 口,各反应室相互串联排列,使一反应室之出口与 下一反应室之入口相连通; 一传送机构,设置于各反应室中,用于传送玻璃基 板通过各反应室; 复数个风刀,分别设置于各反应室内侧入口及出口 上方及下方;以及 复数个抽气帮浦,分别与各反应室之吸气口及风刀 连通,用于将反应室内之空气抽出,再经风刀送入 反应室中,吹向传送中的玻璃基板。 7.如申请专利范围第6项所述之光阻清除设备,其更 包括复数个喷洒头,设置于反应室入口与出口之间 ,用于将溶剂或水喷洒于玻璃基板表面。 8.如申请专利范围第6项所述之光阻清除设备,其中 吸气口设置于各反应室上方,较接近出口之一侧。 9.如申请专利范围第6项所述之光阻清除设备,其更 包括一供气单元,与各反应室连通,用于将空气送 入反应室中。 10.如申请专利范围第6项所述之光阻清除设备,其 更包括一排气单元,与各反应室连通,用于将反应 室内之空气排出。 图式简单说明: 图1为传统适用于玻璃基板之光阻清除设备示意图 。 图2为本创作光阻清除设备之反应室示意图。 图3为本创作具有多个反应室的光阻清除设备示意 图。 |
