| 主权项 |
1.一种场发射面板平行对位压合装置,用于吸附场 发射之阴、阳极基板以进行对位压合,该阴、阳极 基板表面各设有一对位参考点,该场发射面板平行 对位压合装置包括有: 一上基板,其具有一第一吸附单元以吸附该阳极基 板; 一下基板,其具有一第二吸附单元以吸附该阴极基 板; 一光学定位检测单元,其设置于该上基板上,以提 供该阴、阳极基板之对位及光学聚焦定位参考; 一水平调整单元,其设置于该上基板之顶端,以提 供该上基板水平移动; 一支撑单元,其设置于该水平调整单元上,以提供 该上基板垂直移动; 一旋转对位单元,其设置于该下基板之底端,以提 供该下基板旋转对位该上基板; 一平行固定单元,其水平地连接该支撑单元与该光 学定位检测单元,以调整该光学定位检测单元之垂 直移动;以及 一UV光源单元,其具有四个分别设置于该上基板底 端且彼此相对应之UV光源装置,以及至少一设置于 该上、下基板外之UV胶灌注装置,以提供紫外光曝 光固化。 2.如申请专利范围第1项所述之场发射面板平行对 位压合装置,其中该第一吸附单元系为一第一气压 吸引装置以及复数个形成于该上基板底端且相通 于该第一气压吸引装置之第一吸附槽及第一吸附 孔道,该第二吸附单元系为一第二气压吸引装置以 及复数个形成于该下基板顶端且相通于该第二气 压吸引装置之第二吸附槽及第二吸附孔道。 3.如申请专利范围第1项所述之场发射面板平行对 位压合装置,其中该光学定位检测单元系具有四个 分别设置于该上基板各角落之光学定位检测装置 。 4.如申请专利范围第1项所述之场发射面板平行对 位压合装置,其中该支撑单元具有一支撑柱及一设 置于支撑柱上之旋绕式装置,以提供该上基板充分 地对位于该下基板。 5.如申请专利范围第1项所述之场发射面板平行对 位压合装置,其中该平行固定单元具有一连结于该 支撑单元与该光学定位检测单元之平行固定架,以 及一设置该平行固定架与该光学检测定位单元之 调整旋钮。 6.如申请专利范围第5项所述之场发射面板平行对 位压合装置,其中该调整旋钮系用以调整该平行固 定架与该光学定位检测单元之光学聚焦轴距,以保 持一特定间隙。 7.如申请专利范围第5项所述之场发射面板平行对 位压合装置,其中该平行固定架与该上基板系保持 一平行关系。 8.如申请专利范围第5项所述之场发射面板平行对 位压合装置,其中该调整旋钮系为一齿轮旋钮,该 齿轮旋钮系浮动地固定于该平行固定架上。 9.如申请专利范围第4项所述之场发射面板平行对 位压合装置,其中该旋绕式装置系配合该光学定位 检测单元,以提供该上、下基板保持一水平关系。 10.如申请专利范围第1项所述之场发射面板平行对 位压合装置,其中该光学定位检测单元系配合该水 平调整单元与该旋转对位单元以调整该上、下基 板之水平平移及旋转。 11.如申请专利范围第1项所述之场发射面板平行对 位压合装置,其中该UV胶灌注装置系具有一UV灌注 器及一配合该UV灌注器之滑轨,该滑轨系提供该UV 灌注器水平移动。 图式简单说明: 第一图系为本创作场发射面板平行对位压合装置 之一部分示意图; 第二图系为本创作第一图之仰视图; 第三图系为本创作场发射面板平行对位压合装置 之另一部分示意图; 第四图系为本创作第三图之俯视图; 第五图系为本创作场发射面板平行对位压合装置 之组合示意图;以及 第六图系为本创作场发射面板平行对位压合装置 之另一组合示意图。 |
