| 主权项 |
1.一种显示装置,系于基板上形成具有电极及光功 能层之元件层之显示装置; 其特征系前述基板系以非可逆性之延展性材料所 构成;前述元件层系以伸缩性材料所构成之同时, 对前述基板具有黏着性。 2.一种显示装置,系于基板上形成具有电极及光功 能层之元件层之显示装置; 其特征系前述基板系以藉由热能量发挥收缩性之 热收缩性材料,或是藉由光能量发挥收缩性之光收 缩性材料所构成;前述元件层,以伸缩性材料所构 成之同时,对前述基板具有黏着性。 3.一种显示装置,系于基板上形成具有电极及光功 能层之元件层之显示装置; 其特征系前述基板及前述元件层,均以伸缩性材料 所构成;前述元件层对前述基板具有黏着性。 4.如申请专利范围第3项所记载之显示装置,其中, 前述基板系以可自我收缩之弹性材料所构成。 5.如申请专利范围第3项所记载之显示装置,其中, 前述基板系以藉由热能量或是光能量,发挥非可逆 性之伸缩性材料所构成。 6.如申请专利范围第1项至第5项中之任一项所记载 之显示装置,其中,连接于前述电极之配线,系分散 金属微粒子于导电性聚合物。 7.一种电子机器,其特征系具备如申请专利范围第1 项至第5项中之任一项所记载之显示装置和驱动控 制该显示装置之驱动控制手段。 8.一种显示装置之制造方法,系于基板上形成具有 电极及光功能层之元件层之显示装置;前述基板系 以非可逆性之延展性材料所构成;前述元件层系以 伸缩性材料所构成之同时,对前述基板具有黏着性 ;其特征系具备:于前述基板上,形成前述元件层之 元件层形成工程,和于形成前述元件层之后,使前 述显示装置成为所欲目标之大小,延展前述基板和 前述元件层之延展工程。 9.如申请专利范围第8项所记载之显示装置之制造 方法,其中,前述延展工程,系由将前述基板延展于X 轴方向之X轴延展机构,与将前述基板延展于Y轴之Y 轴延展机构所形成;该X轴延展机构与Y轴延展机构 系使用相互连接之延展机构,将前述基板和前述元 件层同时延展于二维方向。 10.如申请专利范围第8项或第9项所记载之显示装 置之制造方法,其中,前述显示装置为液晶显示装 置;于前述元件层形成工程之后,更具备注入液晶 于前述元件层间之液晶注入工程;于前述延展工程 中,前述液晶注入工程之后,延展前述基板和前述 元件层。 11.如申请专利范围第8项或第9项所记载之显示装 置之制造方法,其中,更具备有:先行于前述延展工 程,形成藉由依据热能量所硬化之热硬化性材料, 或是藉由光能量所硬化之光硬化性材料所构成,并 且密封前述基板之密封层之密封层形成工程;和于 前述延展工程之后,硬化前述密封层之密封层硬化 工程。 12.一种显示装置之制造方法,系于基板上形成具有 电极及光功能层之元件层之显示装置;前述基板系 以藉由热能量发挥收缩性之热收缩性材料所构成; 前述元件层系以伸缩性材料所构成之同时,对前述 基板具有黏着性;其特征系具备:于前述基板上形 成前述元件层之元件层形成工程,和于形成前述元 件层之后,藉由前述热能量而收缩前述基板和前述 元件层之收缩工程。 13.一种显示装置之制造方法,系于基板上形成具有 电极及光功能层之元件层之显示装置;前述基板系 以藉由光能量发挥收缩性之光收缩性材料所构成; 前述元件层系以伸缩性材料所构成之同时,对前述 基板具有黏着性;其特征系具备:于前述基板上形 成前述元件层之元件层形成工程,和于形成前述元 件层之后,藉由前述光能量而收缩前述基板和前述 元件层之收缩工程。 14.一种显示装置之制造方法,系于基板上形成具有 电极及光功能层之元件层之显示装置;前述基板及 前述元件层,均以伸缩性材料所构成;前述元件层, 对前述基板具有黏着性;其特征系具备:先行于前 述元件层之形成而延展前述基板之前延展工程,和 于延展前述基板之后,于前述基板上,形成前述元 件层之元件层形成工程,和于形成前述元件层之后 ,使前述显示装置成为所欲目标之大小,收缩前述 基板和元件层之收缩工程。 15.如申请专利范围第14项所记载之显示装置之制 造方法,其中,前述基板系以可自我收缩之弹性材 料所构成;于前述的前延展工程中,前述基板系藉 由延展于X轴方向及/或Y轴方向之延展机构,于延展 之状态下加以固定;于前述收缩工程中,解除前述 延展机构。 16.如申请专利范围第14项所记载之显示装置之制 造方法,其中,前述基板系以藉由热能量发挥非可 逆性之收缩性材料所构成;于前述收缩工程中,于 收缩前述基板之同时,对前述基板赋与前述热能量 。 17.如申请专利范围第14项所记载之显示装置之制 造方法,其中,于前述收缩工程之后,更具备藉由热 能量使前述基板硬化之热硬化工程。 18.如申请专利范围第14项所记载之显示装置之制 造方法,其中,于前述收缩工程之后,更具备藉由光 能量使前述基板硬化之光硬化工程。 19.如申请专利范围第12项至第18项之任一项所记载 之显示装置之制造方法,其中,更具备有:先行于前 述收缩工程,形成藉由依据热能量所硬化之热硬化 性材料,或是依据光能量所硬化之光硬化性材料所 构成,并且密封前述基板之密封层之密封层形成工 程;和于前述收缩工程之后,硬化前述密封层之密 封层硬化工程。 20.如申请专利范围第11项所记载之显示装置之制 造方法,其中,前述显示装置为主动面板,具有以伸 缩性材料所构成之主动元件;更具备于前述基板上 ,形成前述主动元件之主动元件形成工程。 21.如申请专利范围第20项所记载之显示装置之制 造方法,其中,前述电极、前述光功能层、前述密 封层及前述主动元件中之任一者,或是两者以上, 系使用喷墨方式所形成。 图式简单说明: 图1为表示本发明之一实施形态之显示装置之要部 图。 图2为关于实施形态之显示装置之平面图及剖面图 。 图3为关于实施形态之功能液滴喷出装置之平面视 模式图。 图4为关于实施形态之延展装置之平面视模式图。 图5为关于实施形态之卡盘机构之斜视图。 图6为表示关于实施形态之显示装置之延展状态之 一例图。 图7为表示与图6不同之显示装置之延展状态之一 例图。 图8为表示关于实施形态之有机EL显示装置之制造 方法之流程图。 图9为于关于实施形态之有机EL显示装置之制造方 法之间隔部形成工程(无机物突起)之剖面图。 图10为于关于实施形态之有机EL显示装置之制造方 法之间隔部形成工程(有机物突起)之剖面图。 图11为关于实施形态之有机EL显示装置之制造方法 之电浆处理工程(亲水化处理)之剖面图。 图12为关于实施形态之有机EL显示装置之制造方法 之电浆处理工程(排水化处理)之剖面图。 图13为关于实施形态之有机EL显示装置之制造方法 之电洞注入层形成工程(功能液滴喷出)之剖面图 。 图14为关于实施形态之有机EL显示装置之制造方法 之电洞注入层形成工程(乾燥)之剖面图。 图15为关于实施形态之有机EL显示装置之制造方法 之表面改质工程(功能液滴喷出)之剖面图。 图16为关于实施形态之有机EL显示装置之制造方法 之表面改质工程(乾燥)之剖面图。 图17关于实施形态之有机EL显示装置之制造方法之 B发光层形成工程(功能液滴喷出)之剖面图。 图18关于实施形态之有机EL显示装置之制造方法之 B发光层形成工程(乾燥)之剖面图。 图19关于实施形态之有机EL显示装置之制造方法之 R、B、G发光层形成工程之剖面图。 图20关于实施形态之有机EL显示装置之制造方法之 对向电极形成工程之剖面图。 图21关于实施形态之有机EL显示装置之制造方法之 密封工程之剖面图。 图22为表示第2实施形态之液晶显示装置制造方法 之流程图。 图23为第2实施形态之液晶显示装置之分解斜视图 。 图24为第2实施形态之液晶显示装置之剖面图。 图25为表示第3实施形态之显示装置收缩状态之一 例图。 图26为表示第4实施形态之延展机构之一例图。 |
