| 主权项 |
1.一种光阻涂布机,其至少包含: 一载台,用以承载一基板; 一给液头(dispenser head),用以将光阻涂布于该基板 上; 一影像感测系统;以及 一移动机构,用以移动该给液头,该移动机构系根 据该影像感测系统提供之基板座标将该给液头移 动至一起始位置。 2.如申请专利范围第1项所述之光阻涂布机,其中该 影像感测系统包含一视觉系统(vision system)设于该 载台之上以及一图案辨识系统(pattern recognition system)。 3.如申请专利范围第2项所述之光阻涂布机,其中该 视觉系统包含一电荷耦合装置(CCD)用以得到基板 之影像,并且该图案辨识系统可藉由将该视觉系统 所撷取的影像与一预先设定之样版加以比对而得 到该基板座标。 4.如申请专利范围第1项所述之光阻涂布机,其中该 给液头具有一狭缝型喷嘴(slit nozzle)或复数个给液 喷嘴(liquid discharging nozzles)。 5.一种光阻涂布机,其至少包含: 一输送装置,用以承载一基板,该输送装置系沿一X 轴方向移动该基板至一预先设定位置; 一导位件(guider),设于该预先设定位置,当该基板被 移动至该预先设定位置时,该导位件系可限制该基 板在该X轴方向之位移; 一给液头(dispenser head),用以将光阻涂布于该基板 上; 一影像感测系统;以及 一移动机构,用以沿一Y轴方向移动该给液头,该Y轴 方向系垂直于该X轴方向,该移动机构系根据该影 像感测系统提供之基板Y轴座标将该给液头移动至 一起始位置。 6.如申请专利范围第5项所述之光阻涂布机,其中该 影像感测系统包含一视觉系统(vision system)设于该 预先设定位置之上以及一图案辨识系统(pattern recognition system)。 7.如申请专利范围第6项所述之光阻涂布机,其中该 视觉系统包含一电荷耦合装置(CCD)用以得到基板 之影像,并且该图案辨识系统可藉由将该视觉系统 所撷取的影像与一预先设定之样版加以比对而得 到该基板Y轴座标。 8.如申请专利范围第5项所述之光阻涂布机,其中该 给液头具有一狭缝型喷嘴(slit nozzle)或复数个给液 喷嘴(liquid discharging nozzles)。 9.一种光阻涂布方法,其至少包含: 在将一基板移动至一预先设定位置之后,利用一影 像感测系统获得该基板之座标; 根据该影像感测系统提供之基板座标将该给液头 移动至一起始位置;以及 在该给液头被移动至该起始位置之后,移动该给液 头并且将光阻经由该给液头涂布于该基板上。 10.如申请专利范围第9项所述之光阻涂布方法,其 中该影像感测系统包含一视觉系统以及一图案辨 识系统,且该基板座标获得步骤系包含: 利用该视觉系统获得该基板的影像;以及 利用该图案辨识系统比对该视觉系统所撷取的影 像与一预先设定之样版而得到该基板座标。 11.如申请专利范围第10项所述之光阻涂布方法,其 中该视觉系统包含一电荷耦合装置(CCD)。 12.一种光阻涂布方法,其至少包含: 在将一基板系沿一X轴方向移动至一预先设定位置 之后,限制该基板该X轴方向之位移并且利用一影 像感测系统获得该基板在一Y轴方向之座标,该Y轴 方向系垂直于该X轴方向; 根据该基板Y轴座标将该给液头移动至一起始位置 ;以及 在该给液头被移动至该起始位置之后,移动该给液 头并且将光阻经由该给液头涂布于该基板上。 13.如申请专利范围第12项所述之光阻涂布方法,其 中该影像感测系统包含一视觉系统以及一图案辨 识系统,且该基板Y轴座标获得步骤系包含: 在将基板移动至该预先设定位置之后,利用该视觉 系统获得该基板的影像;以及 利用该图案辨识系统比对该视觉系统所撷取的影 像与一预先设定之样版而得到该基板Y轴座标。 14.如申请专利范围第13项所述之光阻涂布方法,其 中该视觉系统包含一电荷耦合装置(CCD)。 15.如申请专利范围第12项所述之光阻涂布方法,其 中该基板在该X轴方向之位移限制步骤系藉由一设 于该预先设定位置之导位件达成。 图式简单说明: 第1图系绘示习知光阻涂布机的立体示意图;以及 第2图系绘示根据本发明一实施例的光阻涂布机的 立体示意图。 |
