| 主权项 |
1.一种固态或凝胶态之可聚合奈米复合材料,其含 有: a)4.9至95.9wt%之可溶聚合物; b)4至95wt%之部分或完全缩合的矽烷,其来自以下族 群:丙烯矽烷类,环氧基矽烷类,丙烯烷氧基矽烷类, 丙烯环氧基矽烷类,环氧基烷氧基矽烷类,烷氧基 矽烷类及烷基烷氧基矽烷类,此矽烷具有33至100%之 无机缩合比例及0至95%之有机转化比例; c)0至60wt%丙烯酸酯; d)0.1至50wt%之表面经修饰的奈米级粒子,其来自以 下族群:氧化物,硫化物,硒化物,碲化物,卤化物,碳 化物,砷化物,锑化物,氮化物,磷化物,碳酸盐,羧酸 盐,磷酸盐,硫酸盐,矽酸盐,钛酸盐,锆酸盐,铝酸盐, 锡酸盐,高铅酸盐及其混合氧化物; e)0至50wt%软化剂; f)0至5wt%之热或光化学交联起始剂,敏化剂,润湿剂, 粘合促进剂,流变添加剂,抗氧化剂,安定剂,色料, 光色及热色物质或其组合物,在每一情况中系以奈 米复合材料之总重量(乾重量)来表示。 2.如申请专利范围第1项之奈米复合材料,其中可溶 聚合物a)是聚丙烯酸酯,聚甲基丙烯酸酯,聚环氧化 物,聚乙烯醇,聚乙酸乙烯酯或聚丁酸乙烯酯,其可 溶于有机溶剂中。 3.如申请专利范围第1或2项之奈米复合材料,其中 矽烷b)是甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷,丙烯氧 基丙基三甲氧基矽烷,二甲基二甲氧基矽烷,二甲 基二乙氧基矽烷,3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基矽 烷,乙烯基三乙氧基矽烷,甲基三乙氧基矽烷或其 组合物。 4.如申请专利范围第1或2项之奈米复合材料,其中 丙烯酸酯c)是甲基丙烯酸甲酯或二醇二丙烯酸酯 或二醇二甲基丙烯酸酯。 5.如申请专利范围第1或2项之奈米复合材料,其中 奈米级粒子d)用含有(甲基)丙烯基,烯丙基,乙烯基, 环氧基,羟基,羧基或胺基或其组合物之化合物来 表面修饰。 6.如申请专利范围第1或2项之奈米复合材料,其中 奈米级粒子是表面经修饰的SiO2,TiO2,ZrO2,或Ta2O5粒 子。 7.如申请专利范围第1或2项之奈米复合材料,其中 含有0.1至30wt%之软化剂。 8.一种产制如申请专利范围第1项之奈米复合材料 的方法,其中矽烷b)藉添加水解剂而部分或完全缩 合且选择地藉UV照射来聚合,且与成份a),c)至f)之一 或多者混合,或矽烷b)首先与成份a),c)至f)之一或多 者混合,而后缩合并选择地聚合,且选择地,有机溶 剂随后去除。 9.一种具有折射率梯度之薄膜,其实质由一或二个 覆有如申请专利范围第1项之奈米复合材料的透明 塑胶薄膜组成,其中折射率梯度已藉应用电势差, 电子照射,全息照像术,石印术或藉局部照明来产 生。 10.一种产制如申请专利范围第9项之具有折射率梯 度的薄膜的方法,其中如申请专利范围第1项之奈 米复合材料应用至透明塑胶薄膜上,使有机溶剂蒸 发,可选择地,奈米复合材料层与透明覆盖薄膜层 合,折射率梯度藉应用电势差,电子照射,全息照像 术,石印术或藉局部照明而产生于奈米复合材料层 中且折射率梯度随后藉完全热及/或光引起之奈米 复合材料之交联而固定。 |
