发明名称 原子层沉积装置和方法
摘要 在本发明中提供了一种用于原子层沉积的装置和方法,该装置和方法能减小化学用品和反应气体的混合。通过安装和监测前级管道(26),第一产物母体和第二产物母体只有在合适的时间和位置处才能与其它化学药品和反应气体混合。还有,提供了独立和专用的腔室出口(17、29)、隔离阀(24、34)、排气前级管道(22、32)和排气泵(20、30),它们在需要时用于驱动特定气体。
申请公布号 CN1306062C 申请公布日期 2007.03.21
申请号 CN02820417.4 申请日期 2002.10.15
申请人 微米技术公司 发明人 菲利普·H·坎贝尔;戴维·J·库比斯塔
分类号 C23C16/44(2006.01);C23C16/455(2006.01) 主分类号 C23C16/44(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 范莉
主权项 1.一种原子层沉积装置(2),包括:处理反应器腔室(10),该处理反应器腔室包括第一产物母体进口(14)、第二产物母体进口(16)和第一腔室出口(17);第一分配阀(4),该第一分配阀与所述处理反应器腔室(10)的所述第一产物母体进口(14)连接;第二分配阀(8),该第二分配阀与所述处理反应器腔室(10)的所述第二产物母体进口(16)连接;第一排气通路,该第一排气通路与所述处理反应器腔室(10)连接,并设置成通过直接与所述第一腔室出口(17)连接的第一隔离阀(24)而选择地与所述处理反应器腔室(10)隔离,这样,在所述第一隔离阀(24)和所述第一腔室出口(17)之间没有排气前级管道,所述第一排气通路还包括第一排气泵(20)和第一排气前级管道(22),其中所述第一排气泵(20)通过所述第一排气前级管道(22)与所述第一隔离阀(24)连接;以及第一分配前级管道(26),该第一分配前级管道包括第一端(25)和第二端(27),其中,所述第一分配前级管道的第一端(25)与所述第一分配阀(4)连接,所述第一分配前级管道(26)的所述第二端(27)与所述第一排气通路或第一分配泵(28)连接。
地址 美国爱达荷