发明名称 |
双折射光学系统 |
摘要 |
本发明涉及一种包括一流体腔1和一双折射部分的光学系统,该流体腔包括具有不同折射率的第一和第二流体10、12,该两流体之间的界面形成一个弯月面14。该双折射部分能够改变第一辐射束3b和第二辐射束3c的特性,该第一和第二辐射束具有不同的偏振态。弯月面构型的改变导致该第一辐射束和第二辐射束特性的改变。该弯月面构型的改变可通过电湿法来控制。 |
申请公布号 |
CN1934482A |
申请公布日期 |
2007.03.21 |
申请号 |
CN200580009449.3 |
申请日期 |
2005.03.14 |
申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
B·H·W·亨德里克斯;C·T·H·F·利登鲍姆;S·斯塔林加;S·凯帕 |
分类号 |
G02B26/02(2006.01);G02B3/14(2006.01);G02B27/28(2006.01);G02B5/30(2006.01) |
主分类号 |
G02B26/02(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
龚海军;张志醒 |
主权项 |
1、一种包括流体腔的光学系统,该流体腔包括第一流体,其中该光学系统包括一双折射部分,该双折射部分能够改变第一辐射束和第二辐射束的特性,该第一和第二辐射束具有不同的偏振态,其特征在于:-该流体腔容纳着第二流体,该第一和第二流体具有不同的折射率,且两流体之间的界面形成一个弯月面;并且-该双折射部分被如此布置,以至于弯月面构型的改变导致该第一辐射束和第二辐射束特性的改变。 |
地址 |
荷兰艾恩德霍芬 |