发明名称 PLASMA CLEANING GAS AND PLASMA CLEANING METHOD
摘要
申请公布号 EP1437768(A4) 申请公布日期 2007.03.21
申请号 EP20020758871 申请日期 2002.08.26
申请人 NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCEAND TECHNOLOGY;ANELVA CORPORATION;ULVAC, INC.;KANTO DENKA KOGYO CO., LTD.;SANYO ELECTRIC CO., LTD.;SHOWA DENKO K.K.;SONY CORPORATION;DAIKIN INDUSTRIES, LTD.;TOKYO ELECTRON LIMITED;NEC ELECTRONICS CORPORATION;HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.;MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.;RENESAS TECHNOLOGY CORP.;ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED 发明人 SEKIYA,A;MITSUI,Y;OHIRA,Y;YONEMURA,T
分类号 C23C16/44;B08B7/00;H01L21/3065 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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