| 发明名称 | 抗反射薄膜的制备方法、抗反射薄膜、偏振片和图像显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是提供具有优异的抗划伤性，同时具有足够高的抗反射性能的抗反射薄膜的制备方法，通过该制备方法获得的抗反射薄膜以及各自包括这种抗反射薄膜的偏振片和图像显示装置。用于制备包括透明基底、在该透明基底上包括至少一层的抗反射层的抗反射薄膜的方法，该制备方法包括用含有以下步骤(1)和(2)的层形成方法在所述透明基底上形成至少一层：(1)在透明基底上施涂涂层的步骤，和(2)在氧浓度低于空气中的氧浓度的气氛中通过照射电离辐射来固化所述涂层的步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN1934464A | 申请公布日期 | 2007.03.21 |
| 申请号 | CN200580009527.X | 申请日期 | 2005.03.23 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 大谷薰明;福重裕一 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01);B05D3/06(2006.01);B32B7/02(2006.01);B32B27/30(2006.01);G02B5/30(2006.01);G09F9/00(2006.01) | 主分类号 | G02B1/11(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 于辉 |
| 主权项 | 1、制备抗反射薄膜的方法，所述抗反射薄膜包括：透明基底；包括至少一层的抗反射层，所述抗反射层是在所述透明基底上，所述制备方法包括：用包括以下步骤(1)和(2)的层形成方法，形成叠加在所述透明基底上的层中的至少一层：(1)在透明基底上施涂涂层的步骤，和(2)在氧浓度低于空气中的氧浓度的气氛中通过照射电离辐射来固化所述涂层的步骤。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||