发明名称 材料膜的制造方法以及材料膜的制造装置
摘要 利用背景技术的内含式富勒烯制造方法在真空容器中相对于空的富勒烯照射将内含原子离子化的内含离子。在形成将大于富勒烯的六元环的原子内含的内含式富勒烯时,具有内含式富勒烯的形成效率低的问题。在进行内含离子照射的同时,将直径和质量大的离子照射到富勒烯膜上。由于质量大的离子冲撞于富勒烯分子,因此富勒烯分子发生大的变形,富勒烯分子的开口部变大。内含离子进入到富勒烯分子的笼状结构中,形成内含式富勒烯的概率变高。
申请公布号 CN1934286A 申请公布日期 2007.03.21
申请号 CN200580009185.1 申请日期 2005.03.18
申请人 理想星株式会社 发明人 笠间泰彦;表研次;工藤升
分类号 C23C14/48(2006.01);C01B21/064(2006.01);C01B31/02(2006.01) 主分类号 C23C14/48(2006.01)
代理机构 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 代理人 吴小灿;张涛
主权项 1、材料膜的制造方法,其特征在于,产生含有注入离子的等离子体,在接触于上述等离子体的电位体上外加控制电压控制上述注入离子的密度,将上述等离子体朝向堆积基板照射,将与上述注入离子极性相反的偏压电压外加在上述堆积基板上赋予上述注入离子加速能量,将上述注入离子注入到材料膜内。
地址 日本宫城县